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光刻胶剥离剂组合物
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN01808573.3
申请日
:
2001-04-25
公开(公告)号
:
CN1426544A
公开(公告)日
:
2003-06-25
发明(设计)人
:
尹锡壹
朴英雄
吴昌一
李相大
柳终顺
申请人
:
申请人地址
:
韩国仁川市
IPC主分类号
:
G03F742
IPC分类号
:
代理机构
:
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人
:
刘国平
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2003-09-10
实质审查的生效
实质审查的生效
2003-06-25
公开
公开
2019-04-12
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/42 申请日:20010425 授权公告日:20050921 终止日期:20180425
2005-09-21
授权
授权
共 50 条
[1]
光刻胶剥离剂
[P].
不公告发明人
论文数:
0
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0
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0
不公告发明人
.
中国专利
:CN104049476A
,2014-09-17
[2]
光刻胶剥离剂组合物
[P].
王腾芳
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王腾芳
;
王勇军
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王勇军
.
中国专利
:CN111448520A
,2020-07-24
[3]
光刻胶剥离剂组合物
[P].
金玮溶
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金玮溶
;
尹锡一
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尹锡一
;
曹三永
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曹三永
;
朴顺姬
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朴顺姬
;
全雨植
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全雨植
.
中国专利
:CN1682155A
,2005-10-12
[4]
光刻胶剥离剂组合物
[P].
金圣培
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金圣培
;
尹锡壹
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尹锡壹
;
许舜范
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许舜范
;
辛成健
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辛成健
;
金柄郁
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金柄郁
.
中国专利
:CN101140428A
,2008-03-12
[5]
光刻胶剥离剂组合物
[P].
刘超
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刘超
.
中国专利
:CN103676503A
,2014-03-26
[6]
光刻胶用剥离液组合物
[P].
崔好星
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崔好星
;
金址洪
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金址洪
;
金泰根
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金泰根
;
吕相赫
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吕相赫
;
朴海成
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朴海成
.
中国专利
:CN1402089A
,2003-03-12
[7]
光刻胶剥离剂组合物和用该光刻胶剥离剂组合物剥离光刻胶的方法
[P].
韩熙
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韩熙
;
朴珉春
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朴珉春
;
金璟晙
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金璟晙
;
徐圣佑
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徐圣佑
;
权赫俊
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权赫俊
;
安庆昊
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安庆昊
;
崔棅圭
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崔棅圭
;
闵盛晙
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闵盛晙
;
黄智泳
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黄智泳
.
中国专利
:CN101454872B
,2009-06-10
[8]
负型光刻胶剥离剂组合物
[P].
刘超
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刘超
.
中国专利
:CN103513521A
,2014-01-15
[9]
用于移除光刻胶的剥离剂组合物以及使用其剥离光刻胶的方法
[P].
朴泰文
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朴泰文
;
郑大哲
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郑大哲
;
李东勋
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李东勋
;
李佑然
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李佑然
;
李贤浚
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李贤浚
;
金周永
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金周永
.
中国专利
:CN106662825B
,2017-05-10
[10]
用于移除光刻胶的剥离剂组合物以及使用其剥离光刻胶的方法
[P].
朴泰文
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朴泰文
;
郑大哲
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郑大哲
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李东勋
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李东勋
;
李佑然
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李佑然
;
李贤浚
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李贤浚
;
金周永
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金周永
.
中国专利
:CN106062637A
,2016-10-26
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