光刻胶剥离剂组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03821966.2

申请日：

2003-09-30

公开(公告)号：

CN1682155A

公开(公告)日：

2005-10-12

发明(设计)人：

金玮溶尹锡一曹三永朴顺姬全雨植

申请人：

申请人地址：

韩国仁川市

IPC主分类号：

G03F732

IPC分类号：

G03F742

代理机构：

北京德琦知识产权代理有限公司

代理人：

王琦;宋志强

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-10-12	公开	公开
2005-12-07	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-05-26	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻胶剥离剂组合物 [P].

刘超 .

中国专利 :CN103676503A ,2014-03-26

[2]

光刻胶剥离剂组合物 [P].

王腾芳 ;

王勇军 .

中国专利 :CN111448520A ,2020-07-24

[3]

光刻胶剥离剂组合物 [P].

尹锡壹 ;

朴英雄 ;

吴昌一 ;

李相大 ;

柳终顺 .

中国专利 :CN1426544A ,2003-06-25

[4]

光刻胶剥离剂组合物 [P].

金圣培 ;

尹锡壹 ;

许舜范 ;

辛成健 ;

金柄郁 .

中国专利 :CN101140428A ,2008-03-12

[5]

负型光刻胶剥离剂组合物 [P].

刘超 .

中国专利 :CN103513521A ,2014-01-15

[6]

光刻胶剥离剂 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN104049476A ,2014-09-17

[7]

光刻胶剥离剂组合物和用该光刻胶剥离剂组合物剥离光刻胶的方法 [P].

韩熙 ;

朴珉春 ;

金璟晙 ;

徐圣佑 ;

权赫俊 ;

安庆昊 ;

崔棅圭 ;

闵盛晙 ;

黄智泳 .

中国专利 :CN101454872B ,2009-06-10

[8]

用于移除光刻胶的剥离剂组合物以及使用其剥离光刻胶的方法 [P].

朴泰文 ;

郑大哲 ;

李东勋 ;

李佑然 ;

李贤浚 ;

金周永 .

中国专利 :CN106662825B ,2017-05-10

[9]

用于移除光刻胶的剥离剂组合物以及使用其剥离光刻胶的方法 [P].

朴泰文 ;

郑大哲 ;

李东勋 ;

李佑然 ;

李贤浚 ;

金周永 .

中国专利 :CN106062637A ,2016-10-26

[10]

光刻胶剥离组合物 [P].

伊藤翼 ;

佐佐木辽 ;

清水寿和 .

日本专利 :CN118591777A ,2024-09-03

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