光刻胶剥离剂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410239625.3

申请日：

2014-05-30

公开(公告)号：

CN104049476A

公开(公告)日：

2014-09-17

发明(设计)人：

不公告发明人

申请人：

申请人地址：

266071 山东省青岛市市南区香港中路32号五矿大厦801-A室

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

代理机构：

北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350

代理人：

苏雪雪

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-11-14	授权	授权
2014-09-17	公开	公开
2019-06-25	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/42 登记生效日:20190605 变更事项:专利权人变更前权利人:青岛华仁技术孵化器有限公司变更后权利人:南通卓力达金属科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:266071 山东省青岛市市南区香港中路32号五矿大厦801-A室变更后权利人:226000 江苏省南通市高新技术产业开发区金川路268号
2014-11-26	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101589117451 IPC(主分类):G03F 7/42 专利申请号:2014102396253 申请日:20140530

共 50 条

[1]

光刻胶剥离剂组合物 [P].

尹锡壹 ;

朴英雄 ;

吴昌一 ;

李相大 ;

柳终顺 .

中国专利 :CN1426544A ,2003-06-25

[2]

光刻胶剥离剂组合物 [P].

刘超 .

中国专利 :CN103676503A ,2014-03-26

[3]

负型光刻胶剥离剂组合物 [P].

刘超 .

中国专利 :CN103513521A ,2014-01-15

[4]

光刻胶剥离剂组合物 [P].

金玮溶 ;

尹锡一 ;

曹三永 ;

朴顺姬 ;

全雨植 .

中国专利 :CN1682155A ,2005-10-12

[5]

用于移除光刻胶的剥离剂组合物以及使用其剥离光刻胶的方法 [P].

朴泰文 ;

郑大哲 ;

李东勋 ;

李佑然 ;

李贤浚 ;

金周永 .

中国专利 :CN106662825B ,2017-05-10

[6]

用于移除光刻胶的剥离剂组合物以及使用其剥离光刻胶的方法 [P].

朴泰文 ;

郑大哲 ;

李东勋 ;

李佑然 ;

李贤浚 ;

金周永 .

中国专利 :CN106062637A ,2016-10-26

[7]

用于半导体制造的光刻胶剥离剂组合物 [P].

金铉卓 ;

朴成焕 ;

林廷训 ;

金圣培 ;

郑燦珍 ;

白贵宗 ;

韩雄 ;

李相源 ;

李健雄 .

中国专利 :CN101371199A ,2009-02-18

[8]

一种光刻胶剥离液 [P].

鄢艳华 ;

康威 ;

尹静雅 ;

陈昊 .

中国专利 :CN107544215A ,2018-01-05

[9]

光刻胶剥离剂组合物 [P].

王腾芳 ;

王勇军 .

中国专利 :CN111448520A ,2020-07-24

[10]

一种用于光刻胶剥离的剥离液 [P].

鄢艳华 ;

康威 .

中国专利 :CN104317172A ,2015-01-28

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