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膜形成方法和膜形成装置

被引：0
申请号：
CN202210121226.1
申请日：
2022-02-09
公开(公告)号：
CN114919310A
公开(公告)日：
2022-08-19
发明(设计)人：
上田哲人
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
B41M500
IPC分类号：
B41J201 B41J3407 B41J1100
代理机构：
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人：
戚乐
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2022-08-19 公开 公开
2022-09-06 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):B41M 5/00 申请日:20220209
共 50 条
[1]
膜形成装置和膜形成方法 [P]. 
小泽康博 ;
吉冈正博 .
中国专利 :CN105960288B ,2016-09-21
[2]
膜形成方法和膜形成装置 [P]. 
上田哲人 .
日本专利 :CN114919310B ,2024-01-02
[3]
膜形成装置及膜形成方法 [P]. 
坂井　光广 ;
川口　义广 .
中国专利 :CN103043915A ,2013-04-17
[4]
基材处理装置及方法、涂膜形成系统、涂膜形成方法 [P]. 
神田宽行 .
中国专利 :CN105977445A ,2016-09-28
[5]
形成压电膜的方法和装置 [P]. 
安井基博 .
中国专利 :CN100457971C ,2006-01-18
[6]
图像形成装置和图像形成方法 [P]. 
驹沢寿夫 ;
川端喜荣 .
中国专利 :CN102729618B ,2012-10-17
[7]
线式膜形成装置 [P]. 
神川进 ;
佐藤惠一 ;
北本博子 ;
小林敏郎 .
中国专利 :CN101440471B ,2009-05-27
[8]
薄膜形成装置和薄膜的形成方法 [P]. 
本田和义 ;
神山游马 ;
柳智文 ;
篠川泰治 ;
山本昌裕 .
中国专利 :CN101849033A ,2010-09-29
[9]
图像形成装置以及图像形成方法 [P]. 
大西泰造 ;
藤井诚 ;
山野美帆 ;
西埜植一纪 ;
松本浩 .
中国专利 :CN103853015A ,2014-06-11
[10]
图像形成装置及图像形成方法 [P]. 
桥本佳孝 .
日本专利 :CN120151442A ,2025-06-13
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