形成压电膜的方法和装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510083164.6

申请日：

2005-07-13

公开(公告)号：

CN100457971C

公开(公告)日：

2006-01-18

发明(设计)人：

安井基博

申请人：

申请人地址：

日本爱知县

IPC主分类号：

C23C2404

IPC分类号：

H01L4100

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司

代理人：

龙淳

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-09-07	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101677711459 IPC(主分类):C23C 24/04 专利号:ZL2005100831646 申请日:20050713 授权公告日:20090204 终止日期:20150713
2006-03-08	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-02-04	授权	授权
2006-01-18	公开	公开

共 50 条

[1]

膜形成方法和膜形成装置 [P].

上田哲人 .

中国专利 :CN114919310A ,2022-08-19

[2]

膜形成装置和膜形成方法 [P].

小泽康博 ;

吉冈正博 .

中国专利 :CN105960288B ,2016-09-21

[3]

膜形成方法和膜形成装置 [P].

上田哲人 .

日本专利 :CN114919310B ,2024-01-02

[4]

形成具有弯曲压电膜的装置 [P].

保罗·A·侯森汤恩 ;

杰弗里·比克迈尔 ;

安德烈亚斯·比布尔 ;

麻丝·G·奥特斯森 ;

格雷戈里·德布拉邦德 ;

陈振方 ;

马克·尼珀姆尼萨 ;

杉本真也 .

中国专利 :CN103026520A ,2013-04-03

[5]

压电膜器件和压电膜装置 [P].

柴田宪治 ;

末永和史 ;

渡边和俊 ;

野本明 ;

堀切文正 .

中国专利 :CN102959751A ,2013-03-06

[6]

压电膜器件、换能器和压电膜器件的制造方法 [P].

铃木达也 .

日本专利 :CN119486571A ,2025-02-18

[7]

PTZT压电膜及其压电膜形成用液体组合物的制造方法 [P].

土井利浩 ;

曽山信幸 .

中国专利 :CN107431123A ,2017-12-01

[8]

成膜方法、成膜装置、压电膜、压电器件和液体排出装置 [P].

藤井隆满 ;

直野崇幸 ;

新川高见 .

中国专利 :CN102159748A ,2011-08-17

[9]

压电膜的制造方法、基板和压电膜的层叠结构、压电激励器及其制造方法 [P].

安井基博 ;

明渡纯 .

中国专利 :CN100476033C ,2005-10-05

[10]

压电膜、压电装置和液体喷出设备 [P].

新川高见 ;

直野崇幸 ;

藤井隆满 .

中国专利 :CN102299253A ,2011-12-28

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