半导体器件的薄膜和金属线的制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN200610172432.6
申请日
2006-12-27
公开(公告)号
CN1992176A
公开(公告)日
2007-07-04
发明(设计)人
李汉春
申请人
申请人地址
韩国首尔
IPC主分类号
H01L213205
IPC分类号
H01L21768
代理机构
隆天国际知识产权代理有限公司
代理人
郑小军
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件的薄膜和金属线的制造方法 [P]. 
白寅哲 ;
李汉春 .
中国专利 :CN1992177A ,2007-07-04
[2]
半导体器件的金属线及其制造方法 [P]. 
洪韺玉 ;
李东奂 .
中国专利 :CN101101904A ,2008-01-09
[3]
半导体器件中的金属线及其制造方法 [P]. 
尹基准 .
中国专利 :CN101471284A ,2009-07-01
[4]
形成半导体器件的金属线的方法 [P]. 
表成奎 .
中国专利 :CN1351374A ,2002-05-29
[5]
形成半导体器件的金属线的方法 [P]. 
金奭中 .
中国专利 :CN102376639A ,2012-03-14
[6]
形成半导体器件的金属线的方法 [P]. 
金正根 ;
郑哲谟 ;
金恩洙 ;
洪承希 .
中国专利 :CN101154624A ,2008-04-02
[7]
用于半导体器件的金属线及其制造方法 [P]. 
朱星中 ;
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[8]
用于形成半导体器件的金属线的方法 [P]. 
沈相哲 .
中国专利 :CN101471286A ,2009-07-01
[9]
半导体器件的金属线及其制造方法 [P]. 
金承显 .
中国专利 :CN101211890A ,2008-07-02
[10]
半导体器件的金属线及金属线的制作方法 [P]. 
吕游 ;
田野 ;
彭雄 ;
姚业旺 ;
张帆 .
中国专利 :CN117712034A ,2024-03-15