防反射光学元件和防反射光学元件的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210065792.1

申请日：

2012-03-09

公开(公告)号：

CN102681044A

公开(公告)日：

2012-09-19

发明(设计)人：

宫原正明国定照房涩谷穰

申请人：

申请人地址：

日本埼玉县

IPC主分类号：

G02B111

IPC分类号：

B32B324 B32B330 B32B2706

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

梁挥

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-12-31	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101709358607 IPC(主分类):G02B 1/11 专利申请号:2012100657921 申请公布日:20120919
2012-09-19	公开	公开
2012-11-14	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101346522619 IPC(主分类):G02B 1/11 专利申请号:2012100657921 申请日:20120309

共 50 条

[1]

处理反射光学元件的方法、反射光学元件和光学装置 [P].

O·莫格尔-库恩 ;

T·格拉伯 ;

S·瓦格斯鲁伊斯 ;

M·维瑟 ;

S·维斯纳 ;

F·朗格 ;

A·希多伦科 ;

F·沙佩尔 .

德国专利 :CN121175596A ,2025-12-19

[2]

反射光学元件 [P].

小川新平 ;

岛谷政彰 ;

福岛昌一郎 .

中国专利 :CN114008523A ,2022-02-01

[3]

反射光学元件及其制造方法 [P].

吉塞拉·冯布兰肯哈根 .

中国专利 :CN102159997A ,2011-08-17

[4]

反射光学元件及其制造方法 [P].

蒂姆·特萨法蒂 ;

欧文·佐索特 ;

埃里克·路易斯 ;

弗雷德里克·比杰柯克 .

中国专利 :CN102089683B ,2011-06-08

[5]

反射光学元件的基板 [P].

E.伊娃 .

中国专利 :CN112384483A ,2021-02-19

[6]

防反射膜和光学元件 [P].

涩谷穣 ;

山下直城 .

中国专利 :CN103185905A ,2013-07-03

[7]

反射光学元件和立体相机装置 [P].

杉浦嘉则 ;

细川胜元 ;

久保裕之 .

中国专利 :CN111065940B ,2020-04-24

[8]

反射光学元件和立体相机装置 [P].

杉浦嘉则 ;

细川胜元 ;

久保裕之 .

中国专利 :CN114994815A ,2022-09-02

[9]

防反射体和光学元件 [P].

伊东骏也 ;

田泽洋志 ;

梶谷俊一 .

日本专利 :CN120380383A ,2025-07-25

[10]

防反射膜及光学元件 [P].

川岸秀一朗 ;

山下照夫 .

中国专利 :CN103091734A ,2013-05-08

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