反射光学元件及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980136718.0

申请日：

2009-08-22

公开(公告)号：

CN102159997A

公开(公告)日：

2011-08-17

发明(设计)人：

吉塞拉·冯布兰肯哈根

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G21K106

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-09-28	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101113910610 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009801367180 申请日:20090822
2011-08-17	公开	公开
2022-07-29	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20090822 授权公告日:20141224 终止日期:20210822
2014-12-24	授权	授权

共 50 条

[1]

反射光学元件及其制造方法 [P].

蒂姆·特萨法蒂 ;

欧文·佐索特 ;

埃里克·路易斯 ;

弗雷德里克·比杰柯克 .

中国专利 :CN102089683B ,2011-06-08

[2]

防反射光学元件和防反射光学元件的制造方法 [P].

宫原正明 ;

国定照房 ;

涩谷穰 .

中国专利 :CN102681044A ,2012-09-19

[3]

制造用于EUV光刻的反射光学元件的方法 [P].

A.库兹尼佐夫 ;

M.格里森 ;

R.W.E.范德克鲁杰斯 ;

F.比杰科克 .

中国专利 :CN103635974A ,2014-03-12

[4]

反射光学元件 [P].

小川新平 ;

岛谷政彰 ;

福岛昌一郎 .

中国专利 :CN114008523A ,2022-02-01

[5]

处理反射光学元件的方法、反射光学元件和光学装置 [P].

O·莫格尔-库恩 ;

T·格拉伯 ;

S·瓦格斯鲁伊斯 ;

M·维瑟 ;

S·维斯纳 ;

F·朗格 ;

A·希多伦科 ;

F·沙佩尔 .

德国专利 :CN121175596A ,2025-12-19

[6]

反射光学元件的基板 [P].

E.伊娃 .

中国专利 :CN112384483A ,2021-02-19

[7]

光学元件及其制造方法 [P].

峰邑浩行 ;

安斋由美子 .

中国专利 :CN103308968A ,2013-09-18

[8]

修复EUV光刻的反射光学元件的方法 [P].

R.迈耶 ;

H.基利 ;

C.雅利奇 ;

E.伊娃 ;

R.温特 ;

A.施密特纳 ;

A.库兹涅佐夫 ;

V.斯洛弗 ;

C.诺特波姆 ;

W.默克尔 .

中国专利 :CN110050310A ,2019-07-23

[9]

衍射光学元件及其制造方法 [P].

上野友之 ;

长谷川干人 .

中国专利 :CN101842724B ,2010-09-22

[10]

具有降低的污染的反射光学元件 [P].

D·H·埃姆 ;

S·米勒伦德 ;

T·施泰因 ;

J·H·J·莫尔斯 ;

B·T·沃尔斯施里金 ;

D·克劳斯 ;

R·维尔斯路易斯 ;

M·G·H·迈耶因克 .

中国专利 :CN101968609B ,2011-02-09

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