反射光学元件和立体相机装置

被引：0

申请号：

CN202210659545.8

申请日：

2018-08-22

公开(公告)号：

CN114994815A

公开(公告)日：

2022-09-02

发明(设计)人：

杉浦嘉则细川胜元久保裕之

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G02B510

IPC分类号：

G02B1706 G03B1717 G03B3000 B32B1500 B32B1504 B32B15085 B32B2732 B32B3300 B32B2706

代理机构：

中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038

代理人：

贾金岩

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/10 申请日:20180822
2022-09-02	公开	公开

共 50 条

[1]

反射光学元件和立体相机装置 [P].

杉浦嘉则 ;

细川胜元 ;

久保裕之 .

中国专利 :CN111065940B ,2020-04-24

[2]

处理反射光学元件的方法、反射光学元件和光学装置 [P].

O·莫格尔-库恩 ;

T·格拉伯 ;

S·瓦格斯鲁伊斯 ;

M·维瑟 ;

S·维斯纳 ;

F·朗格 ;

A·希多伦科 ;

F·沙佩尔 .

德国专利 :CN121175596A ,2025-12-19

[3]

防反射光学元件和防反射光学元件的制造方法 [P].

宫原正明 ;

国定照房 ;

涩谷穰 .

中国专利 :CN102681044A ,2012-09-19

[4]

反射光学元件 [P].

小川新平 ;

岛谷政彰 ;

福岛昌一郎 .

中国专利 :CN114008523A ,2022-02-01

[5]

折射反射光学系统和具有该折射反射光学系统的曝光装置 [P].

高桥友刀 .

中国专利 :CN100460921C ,2004-10-06

[6]

反射光学元件的基板 [P].

E.伊娃 .

中国专利 :CN112384483A ,2021-02-19

[7]

反射光学元件及其制造方法 [P].

吉塞拉·冯布兰肯哈根 .

中国专利 :CN102159997A ,2011-08-17

[8]

反射光学元件及其制造方法 [P].

蒂姆·特萨法蒂 ;

欧文·佐索特 ;

埃里克·路易斯 ;

弗雷德里克·比杰柯克 .

中国专利 :CN102089683B ,2011-06-08

[9]

具有降低的污染的反射光学元件 [P].

D·H·埃姆 ;

S·米勒伦德 ;

T·施泰因 ;

J·H·J·莫尔斯 ;

B·T·沃尔斯施里金 ;

D·克劳斯 ;

R·维尔斯路易斯 ;

M·G·H·迈耶因克 .

中国专利 :CN101968609B ,2011-02-09

[10]

光学元件、显示装置、抗反射光学部件和母片 [P].

林部和弥 ;

远藤惣铭 ;

及川真纪子 ;

清水浩一郎 .

中国专利 :CN102282482A ,2011-12-14

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