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反射光学元件和立体相机装置
被引:0
申请号
:
CN202210659545.8
申请日
:
2018-08-22
公开(公告)号
:
CN114994815A
公开(公告)日
:
2022-09-02
发明(设计)人
:
杉浦嘉则
细川胜元
久保裕之
申请人
:
申请人地址
:
日本东京
IPC主分类号
:
G02B510
IPC分类号
:
G02B1706
G03B1717
G03B3000
B32B1500
B32B1504
B32B15085
B32B2732
B32B3300
B32B2706
代理机构
:
中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038
代理人
:
贾金岩
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-09-20
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/10 申请日:20180822
2022-09-02
公开
公开
共 50 条
[41]
包括反射光学元件的接合头组件、相关接合机器和相关方法
[P].
M·B·瓦塞尔曼
论文数:
0
引用数:
0
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0
M·B·瓦塞尔曼
.
中国专利
:CN107978543A
,2018-05-01
[42]
减少反射光束的光学功率
[P].
P·M·康克林
论文数:
0
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0
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0
P·M·康克林
;
C·A·史汀生
论文数:
0
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0
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0
C·A·史汀生
.
中国专利
:CN110178073A
,2019-08-27
[43]
一种超宽角度高反射光学元件及其制备方法和应用
[P].
王英剑
论文数:
0
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机构:
苏州五方光电材料有限公司
苏州五方光电材料有限公司
王英剑
;
奂微微
论文数:
0
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机构:
苏州五方光电材料有限公司
苏州五方光电材料有限公司
奂微微
;
薛军明
论文数:
0
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0
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机构:
苏州五方光电材料有限公司
苏州五方光电材料有限公司
薛军明
;
许磊
论文数:
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机构:
苏州五方光电材料有限公司
苏州五方光电材料有限公司
许磊
;
刘晓雷
论文数:
0
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机构:
苏州五方光电材料有限公司
苏州五方光电材料有限公司
刘晓雷
;
夏满
论文数:
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0
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机构:
苏州五方光电材料有限公司
苏州五方光电材料有限公司
夏满
.
中国专利
:CN117572554A
,2024-02-20
[44]
光学元件、光学装置和用于制造光学元件的方法
[P].
古贺一恕
论文数:
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机构:
佳能株式会社
佳能株式会社
古贺一恕
.
日本专利
:CN118550012A
,2024-08-27
[45]
防反射体和光学元件
[P].
伊东骏也
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机构:
迪睿合株式会社
迪睿合株式会社
伊东骏也
;
田泽洋志
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机构:
迪睿合株式会社
迪睿合株式会社
田泽洋志
;
梶谷俊一
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机构:
迪睿合株式会社
迪睿合株式会社
梶谷俊一
.
日本专利
:CN120380383A
,2025-07-25
[46]
光源和反射式光学元件
[P].
查尔斯·李
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查尔斯·李
;
林西宏
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林西宏
;
托尔斯滕·孔兹
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托尔斯滕·孔兹
;
彼得·布里克
论文数:
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彼得·布里克
.
中国专利
:CN103511874A
,2014-01-15
[47]
光学元件和曝光装置
[P].
白井健
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0
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白井健
;
国分崇生
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0
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国分崇生
;
石泽均
论文数:
0
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石泽均
;
村上敦信
论文数:
0
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村上敦信
.
中国专利
:CN1842892A
,2006-10-04
[48]
光学元件和照明装置
[P].
陈瑞
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0
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陈瑞
;
姚振宁
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0
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姚振宁
;
T·L·奥尔蒂斯费勒
论文数:
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T·L·奥尔蒂斯费勒
;
赵慧影
论文数:
0
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赵慧影
;
胡文玉
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胡文玉
;
林振玄
论文数:
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林振玄
.
中国专利
:CN204534442U
,2015-08-05
[49]
基于光学参量振荡器的中红外高反射光学元件测试装置
[P].
韩凯
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0
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韩凯
;
奚小明
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奚小明
;
李霄
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李霄
;
娄兆凯
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娄兆凯
;
程曦
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程曦
;
李志鸿
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李志鸿
;
宋锐
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宋锐
;
习锋杰
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习锋杰
;
闫宝珠
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闫宝珠
;
杨轶
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杨轶
;
许晓军
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许晓军
.
中国专利
:CN207946214U
,2018-10-09
[50]
一种折反射光学系统及折反射光学成像方法
[P].
王丽萍
论文数:
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王丽萍
;
何锋赟
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何锋赟
;
王君
论文数:
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王君
.
中国专利
:CN106597653A
,2017-04-26
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