反射光学元件和立体相机装置

被引：0

申请号：

CN202210659545.8

申请日：

2018-08-22

公开(公告)号：

CN114994815A

公开(公告)日：

2022-09-02

发明(设计)人：

杉浦嘉则细川胜元久保裕之

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G02B510

IPC分类号：

G02B1706 G03B1717 G03B3000 B32B1500 B32B1504 B32B15085 B32B2732 B32B3300 B32B2706

代理机构：

中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038

代理人：

贾金岩

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/10 申请日:20180822
2022-09-02	公开	公开

共 50 条

[11]

反射光学元件、投射系统和投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根.曼 .

中国专利 :CN102193121B ,2011-09-21

[12]

包含反射光学元件的波导设计 [P].

卢比·查特 ;

本杰明·科尼什 ;

巴里·卢瑟－戴维斯 ;

达克斯·库库尔加 ;

格拉哈姆·阿特金斯 .

中国专利 :CN101194222A ,2008-06-04

[13]

用于辐射束的反射光学元件 [P].

R·M·霍夫斯特拉 ;

A·S·特奇科夫 ;

F·C·D·德纳维尔 ;

G·H·P·M·斯温凯尔斯 ;

P·A·T·M·瑞吉斯 .

:CN112020674B ,2024-08-06

[14]

用于辐射束的反射光学元件 [P].

R·M·霍夫斯特拉 ;

A·S·特奇科夫 ;

F·C·D·德纳维尔 ;

G·H·P·M·斯温凯尔斯 ;

P·A·T·M·瑞吉斯 .

中国专利 :CN112020674A ,2020-12-01

[15]

反射光学元件和用于极紫外光刻的光学系统 [P].

D.H.埃姆 ;

P.休伯 ;

S.米兰德 ;

G.冯布兰肯哈根 .

中国专利 :CN103547945B ,2014-01-29

[16]

制作用于光学元件的基板的方法以及反射光学元件 [P].

A.施梅尔 ;

H.西克曼 .

中国专利 :CN112189064A ,2021-01-05

[17]

反射光学元件、射束引导装置和EUV辐射产生装置 [P].

M·兰贝特 ;

T·埃尔金 .

中国专利 :CN112166369A ,2021-01-01

[18]

具有高刚度基材的反射光学元件 [P].

J·S·萨瑟兰 ;

L·G·万博尔特 ;

K·S·伍达得 .

中国专利 :CN108780161A ,2018-11-09

[19]

形成了中空部的反射光学元件及扫描光学装置 [P].

原新一朗 ;

金子直树 ;

高木宽司 .

中国专利 :CN102356336B ,2012-02-15

[20]

反射光学元件和用于操作EUV光刻设备的方法 [P].

D.H.埃姆 ;

A.多科纳尔 ;

G.冯布兰肯哈根 .

中国专利 :CN102576196A ,2012-07-11

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