用于辐射束的反射光学元件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980028080.2

申请日：

2019-04-10

公开(公告)号：

CN112020674B

公开(公告)日：

2024-08-06

发明(设计)人：

R·M·霍夫斯特拉 A·S·特奇科夫 F·C·D·德纳维尔 G·H·P·M·斯温凯尔斯 P·A·T·M·瑞吉斯

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G02B5/10 G02B7/18

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王益

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-08-06	授权	授权

共 50 条

[1]

用于辐射束的反射光学元件 [P].

R·M·霍夫斯特拉 ;

A·S·特奇科夫 ;

F·C·D·德纳维尔 ;

G·H·P·M·斯温凯尔斯 ;

P·A·T·M·瑞吉斯 .

中国专利 :CN112020674A ,2020-12-01

[2]

反射光学元件 [P].

小川新平 ;

岛谷政彰 ;

福岛昌一郎 .

中国专利 :CN114008523A ,2022-02-01

[3]

处理反射光学元件的方法、反射光学元件和光学装置 [P].

O·莫格尔-库恩 ;

T·格拉伯 ;

S·瓦格斯鲁伊斯 ;

M·维瑟 ;

S·维斯纳 ;

F·朗格 ;

A·希多伦科 ;

F·沙佩尔 .

德国专利 :CN121175596A ,2025-12-19

[4]

反射光学元件的基板 [P].

E.伊娃 .

中国专利 :CN112384483A ,2021-02-19

[5]

防反射光学元件和防反射光学元件的制造方法 [P].

宫原正明 ;

国定照房 ;

涩谷穰 .

中国专利 :CN102681044A ,2012-09-19

[6]

反射光学元件、射束引导装置和EUV辐射产生装置 [P].

M·兰贝特 ;

T·埃尔金 .

中国专利 :CN112166369A ,2021-01-01

[7]

用于极紫外光刻的反射光学元件 [P].

J.韦伯 .

中国专利 :CN102782531B ,2012-11-14

[8]

包含反射光学元件的波导设计 [P].

卢比·查特 ;

本杰明·科尼什 ;

巴里·卢瑟－戴维斯 ;

达克斯·库库尔加 ;

格拉哈姆·阿特金斯 .

中国专利 :CN101194222A ,2008-06-04

[9]

反射光学元件及其制造方法 [P].

吉塞拉·冯布兰肯哈根 .

中国专利 :CN102159997A ,2011-08-17

[10]

反射光学元件及其制造方法 [P].

蒂姆·特萨法蒂 ;

欧文·佐索特 ;

埃里克·路易斯 ;

弗雷德里克·比杰柯克 .

中国专利 :CN102089683B ,2011-06-08

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