反射光学元件和立体相机装置

被引：0

申请号：

CN202210659545.8

申请日：

2018-08-22

公开(公告)号：

CN114994815A

公开(公告)日：

2022-09-02

发明(设计)人：

杉浦嘉则细川胜元久保裕之

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G02B510

IPC分类号：

G02B1706 G03B1717 G03B3000 B32B1500 B32B1504 B32B15085 B32B2732 B32B3300 B32B2706

代理机构：

中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038

代理人：

贾金岩

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/10 申请日:20180822
2022-09-02	公开	公开

共 50 条

[21]

平视显示装置以及反射光学系统 [P].

横江润也 ;

南原孝启 .

中国专利 :CN107924060A ,2018-04-17

[22]

修复EUV光刻的反射光学元件的方法 [P].

R.迈耶 ;

H.基利 ;

C.雅利奇 ;

E.伊娃 ;

R.温特 ;

A.施密特纳 ;

A.库兹涅佐夫 ;

V.斯洛弗 ;

C.诺特波姆 ;

W.默克尔 .

中国专利 :CN110050310A ,2019-07-23

[23]

用于极紫外光刻的反射光学元件 [P].

J.韦伯 .

中国专利 :CN102782531B ,2012-11-14

[24]

用以产生投射曝光装置的反射光学元件的方法、用于投射曝光装置的反射光学元件、投射镜头以及投射曝光装置 [P].

M.凯斯 ;

S.贝佐尔德 ;

M.曼格 ;

C.佩特里 ;

P.亚历克西夫 ;

W.保尔斯 .

德国专利 :CN112585537B ,2024-07-09

[25]

用以产生投射曝光装置的反射光学元件的方法、用于投射曝光装置的反射光学元件、投射镜头以及投射曝光装置 [P].

M.凯斯 ;

S.贝佐尔德 ;

M.曼格 ;

C.佩特里 ;

P.亚历克西夫 ;

W.保尔斯 .

中国专利 :CN112585537A ,2021-03-30

[26]

光学元件用减反射膜、减反射油漆和光学元件 [P].

久保田怜子 .

中国专利 :CN102292656A ,2011-12-21

[27]

折反射光学系统和摄像装置 [P].

佐藤拙 ;

平川纯 ;

田中幸夫 ;

水上雅文 .

中国专利 :CN108254859B ,2018-07-06

[28]

摄影光学系统、相机装置、立体相机装置 [P].

横山悠久 .

中国专利 :CN113341537A ,2021-09-03

[29]

摄影光学系统、相机装置、立体相机装置 [P].

横山悠久 .

中国专利 :CN114815141A ,2022-07-29

[30]

用于反射VUV辐射的光学元件和光学布置 [P].

A.帕齐迪斯 ;

M.克伦兹 ;

H.特劳布 ;

M.哈特林 .

中国专利 :CN113167942A ,2021-07-23

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