一种可控制电阻率的新型直拉硅单晶掺杂方法

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专利类型
发明
申请号
CN201510679222.5
申请日
2015-10-19
公开(公告)号
CN105200513A
公开(公告)日
2015-12-30
发明(设计)人
张少飞 徐荣清 隋佳琦 由佰玲 岳彩广 孙毅 周超
申请人
申请人地址
300384 天津市滨海新区高新区华苑产业园区(环外)海泰东路12号
IPC主分类号
C30B1504
IPC分类号
C30B2906
代理机构
天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211
代理人
李纳
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种控制直拉硅单晶头部电阻率的方法 [P]. 
李建弘 ;
张雪囡 ;
李翔 ;
沈浩平 ;
董兆清 .
中国专利 :CN102181919B ,2011-09-14
[2]
一种掺杂电阻率均匀的N型直拉硅单晶及其制备方法 [P]. 
余学功 ;
肖承全 ;
杨德仁 .
中国专利 :CN102560627A ,2012-07-11
[3]
一种生产直拉重掺极低电阻率硅单晶的方法 [P]. 
娄中士 ;
朱鹏浩 ;
李亚哲 ;
张颂越 ;
郑海峰 ;
刘一波 .
中国专利 :CN104831346A ,2015-08-12
[4]
一种提高直拉硅单晶电阻率均匀性的行波磁场法 [P]. 
菅瑞娟 ;
张雪囡 ;
李建宏 ;
李亚哲 ;
刘一波 ;
宋都明 .
中国专利 :CN102586862A ,2012-07-18
[5]
一种重掺硅单晶电阻率精准控制的方法 [P]. 
王凯磊 ;
李英涛 ;
王万华 ;
皮小争 ;
方峰 ;
崔彬 .
中国专利 :CN117568929A ,2024-02-20
[6]
用于改善直拉硅单晶电阻率均匀性的导流筒结构 [P]. 
娄中士 ;
李亚哲 ;
马萌 ;
孙昊 ;
孙毅 .
中国专利 :CN204918835U ,2015-12-30
[7]
直拉硅单晶生长的重掺杂方法 [P]. 
沈益军 ;
马向阳 ;
田达晰 ;
李立本 ;
阙端麟 .
中国专利 :CN1109778C ,2002-02-27
[8]
直拉硅单晶的掺杂装置及方法 [P]. 
刘进 ;
王忠保 ;
李巨晓 ;
芮阳 ;
魏兴彤 ;
马小龙 ;
虎永慧 .
中国专利 :CN113549994B ,2021-10-26
[9]
一种掺杂电阻率均匀的N型铸造硅单晶及其制备方法 [P]. 
余学功 ;
肖承全 ;
杨德仁 .
中国专利 :CN102560646A ,2012-07-11
[10]
一种提高直拉重掺硅单晶径向电阻率均匀性的方法 [P]. 
张雪囡 ;
徐强 ;
陈澄 ;
宋都明 ;
王林 ;
邬丽丽 ;
苗向春 .
中国专利 :CN102560626A ,2012-07-11