抗蚀剂组成物及图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011225387.2

申请日：

2020-11-05

公开(公告)号：

CN112782935A

公开(公告)日：

2021-05-11

发明(设计)人：

阿达铁平小林知洋及川健一大桥正树藤原敬之

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F7004

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-11	公开	公开
2021-05-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20201105

共 50 条

[1]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

阿达铁平 ;

小林知洋 ;

及川健一 ;

大桥正树 ;

藤原敬之 .

日本专利 :CN112782935B ,2025-05-20

[2]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

阿达铁平 ;

山下信也 ;

大桥正树 ;

藤原敬之 .

日本专利 :CN112782934B ,2025-01-17

[3]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

阿达铁平 ;

山下信也 ;

大桥正树 ;

藤原敬之 .

中国专利 :CN112782934A ,2021-05-11

[4]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

藤原敬之 ;

及川健一 ;

大桥正树 ;

小林知洋 .

日本专利 :CN111522198B ,2024-01-26

[5]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

藤原敬之 ;

及川健一 ;

大桥正树 ;

小林知洋 .

中国专利 :CN111522198A ,2020-08-11

[6]

化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

福岛将大 ;

畠山润 ;

石桥尚树 .

日本专利 :CN117908325A ,2024-04-19

[7]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

大桥正树 ;

橘诚一郎 ;

菊地骏 ;

半田龙之介 .

日本专利 :CN118259547A ,2024-06-28

[8]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

草间理志 ;

大山皓介 ;

菊地骏 ;

大桥正树 .

日本专利 :CN121069703A ,2025-12-05

[9]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

大桥正树 ;

菊地骏 ;

半田龙之介 ;

草间理志 .

日本专利 :CN120652738A ,2025-09-16

[10]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

菊地骏 ;

大山皓介 ;

草间理志 ;

大桥正树 .

日本专利 :CN121115405A ,2025-12-12

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