化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311342291.8
申请日
2023-10-17
公开(公告)号
CN117908325A
公开(公告)日
2024-04-19
发明(设计)人
福岛将大 畠山润 石桥尚树
申请人
信越化学工业株式会社
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
G03F7/004
IPC分类号
G03F7/00
代理机构
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
刘新宇;李茂家
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
新颖鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法 [P]. 
福岛将大 ;
大桥正树 ;
片山和弘 .
中国专利 :CN111440104A ,2020-07-24
[2]
化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
福岛将大 ;
渡边聪 ;
船津显之 ;
增永惠一 ;
小竹正晃 ;
松泽雄太 .
日本专利 :CN121232533A ,2025-12-30
[3]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
福岛将大 ;
渡边聪 ;
船津显之 ;
增永惠一 ;
小竹正晃 ;
松泽雄太 .
日本专利 :CN120972458A ,2025-11-18
[4]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
福岛将大 ;
渡边聪 ;
船津显之 ;
增永惠一 ;
小竹正晃 ;
松泽雄太 .
日本专利 :CN120522977A ,2025-08-22
[5]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
福岛将大 ;
渡边聪 ;
船津显之 ;
增永惠一 ;
小竹正晃 ;
松泽雄太 .
日本专利 :CN119165731A ,2024-12-20
[6]
抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P]. 
藤原敬之 ;
及川健一 ;
大桥正树 ;
小林知洋 .
日本专利 :CN111522198B ,2024-01-26
[7]
抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P]. 
藤原敬之 ;
及川健一 ;
大桥正树 ;
小林知洋 .
中国专利 :CN111522198A ,2020-08-11
[8]
鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法 [P]. 
藤原敬之 ;
及川健一 ;
小林知洋 ;
福岛将大 .
中国专利 :CN113045465A ,2021-06-29
[9]
鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法 [P]. 
藤原敬之 ;
渡边朝美 ;
片山和弘 .
中国专利 :CN112979458A ,2021-06-18
[10]
鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法 [P]. 
藤原敬之 ;
及川健一 ;
小林知洋 ;
福岛将大 .
中国专利 :CN112824382A ,2021-05-21