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化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510625120.9
申请日：
2025-05-15
公开(公告)号：
CN120972458A
公开(公告)日：
2025-11-18
发明(设计)人：
福岛将大 渡边聪 船津显之 增永惠一 小竹正晃 松泽雄太
申请人：
信越化学工业株式会社
申请人地址：
日本
IPC主分类号：
G03F7/039
IPC分类号：
G03F1/24 G03F1/22 G03F7/004
代理机构：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：
刘新宇;李茂家
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-11-18 公开 公开
2025-12-05 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/039申请日:20250515
共 50 条
[1]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
福岛将大 ;
渡边聪 ;
船津显之 ;
增永惠一 ;
小竹正晃 ;
松泽雄太 .
日本专利 :CN119165731A ,2024-12-20
[2]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
增永惠一 ;
渡边聪 ;
船津显之 ;
小竹正晃 ;
井上直也 .
中国专利 :CN115113483A ,2022-09-27
[3]
化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
福岛将大 ;
渡边聪 ;
船津显之 ;
增永惠一 ;
小竹正晃 ;
松泽雄太 .
日本专利 :CN121232533A ,2025-12-30
[4]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
增永惠一 ;
渡边聪 ;
福岛将大 ;
小竹正晃 ;
松泽雄太 ;
末吉巽 .
日本专利 :CN119472171A ,2025-02-18
[5]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
福岛将大 ;
渡边聪 ;
船津显之 ;
增永惠一 ;
小竹正晃 ;
松泽雄太 .
日本专利 :CN120522977A ,2025-08-22
[6]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
增永惠一 ;
渡边聪 ;
船津显之 ;
小竹正晃 ;
井上直也 .
日本专利 :CN115113483B ,2025-08-01
[7]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
增永惠一 ;
渡边聪 ;
小竹正晃 ;
船津显之 ;
福岛将大 ;
松泽雄太 .
日本专利 :CN117666284A ,2024-03-08
[8]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
福岛将大 ;
渡边聪 ;
增永惠一 ;
小竹正晃 ;
松泽雄太 .
日本专利 :CN120595538A ,2025-09-05
[9]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
增永惠一 ;
畠山润 ;
渡边聪 ;
船津显之 ;
小竹正晃 ;
福岛将大 .
日本专利 :CN116360217B ,2025-12-12
[10]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
增永惠一 ;
渡边聪 ;
船津显之 ;
福岛将大 ;
小竹正晃 ;
松泽雄太 .
日本专利 :CN117590697A ,2024-02-23
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