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化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202211633529.8
申请日
:
2022-12-19
公开(公告)号
:
CN116360217B
公开(公告)日
:
2025-12-12
发明(设计)人
:
增永惠一
畠山润
渡边聪
船津显之
小竹正晃
福岛将大
申请人
:
信越化学工业株式会社
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
G03F7/039
IPC分类号
:
G03F1/56
G03F7/004
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇;李茂家
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-12-12
授权
授权
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[1]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
[P].
增永惠一
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渡边聪
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船津显之
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小竹正晃
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井上直也
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井上直也
.
中国专利
:CN115113483A
,2022-09-27
[2]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
[P].
增永惠一
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信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
增永惠一
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渡边聪
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信越化学工业株式会社
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船津显之
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松泽雄太
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信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
松泽雄太
.
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:CN117666284A
,2024-03-08
[3]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
[P].
增永惠一
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末吉巽
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末吉巽
.
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,2025-02-18
[4]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
[P].
增永惠一
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井上直也
.
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,2025-08-01
[5]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
[P].
福岛将大
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松泽雄太
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,2025-11-18
[6]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
[P].
增永惠一
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,2024-02-23
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化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
[P].
增永惠一
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,2024-11-12
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化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
[P].
福岛将大
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,2025-09-05
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化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
[P].
福岛将大
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日本专利
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,2025-08-22
[10]
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
[P].
小竹正晃
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