化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510241015.5

申请日：

2025-03-03

公开(公告)号：

CN120595538A

公开(公告)日：

2025-09-05

发明(设计)人：

福岛将大渡边聪增永惠一小竹正晃松泽雄太

申请人：

信越化学工业株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

G03F7/039

IPC分类号：

G03F7/004 G03F1/22 G03F1/24

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-09-05	公开	公开
2025-09-23	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/039申请日:20250303

共 50 条

[1]

化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

增永惠一 ;

渡边聪 ;

福岛将大 ;

小竹正晃 ;

松泽雄太 .

日本专利 :CN118938597A ,2024-11-12

[2]

化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

增永惠一 ;

渡边聪 ;

福岛将大 ;

小竹正晃 ;

松泽雄太 ;

末吉巽 .

日本专利 :CN119472171A ,2025-02-18

[3]

化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

小竹正晃 ;

渡边聪 ;

增永惠一 ;

大桥正树 .

中国专利 :CN114924464A ,2022-08-19

[4]

化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

增永惠一 ;

渡边聪 ;

福岛将大 ;

小竹正晃 ;

松泽雄太 .

日本专利 :CN118938598A ,2024-11-12

[5]

化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

小竹正晃 ;

渡边聪 ;

增永惠一 ;

大桥正树 .

日本专利 :CN114924464B ,2024-09-24

[6]

化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

增永惠一 ;

渡边聪 ;

船津显之 ;

小竹正晃 ;

井上直也 .

中国专利 :CN115113483A ,2022-09-27

[7]

化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

福岛将大 ;

渡边聪 ;

船津显之 ;

增永惠一 ;

小竹正晃 ;

松泽雄太 .

日本专利 :CN120972458A ,2025-11-18

[8]

化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

增永惠一 ;

渡边聪 ;

船津显之 ;

小竹正晃 ;

井上直也 .

日本专利 :CN115113483B ,2025-08-01

[9]

化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

增永惠一 ;

渡边聪 ;

船津显之 ;

福岛将大 ;

小竹正晃 ;

松泽雄太 .

日本专利 :CN117590697A ,2024-02-23

[10]

化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

福岛将大 ;

渡边聪 ;

船津显之 ;

增永惠一 ;

小竹正晃 ;

松泽雄太 .

日本专利 :CN119165731A ,2024-12-20

← 1 2 3 4 5 →