投射曝光设备中的光学元件的重力补偿

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980149514.0

申请日：

2009-12-11

公开(公告)号：

CN102265219B

公开(公告)日：

2011-11-30

发明(设计)人：

诺伯特.米尔伯格索斯滕.拉塞尔阿明.舍帕克于尔根.费希尔马赛厄斯.奥思

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-07-16	授权	授权
2011-11-30	公开	公开
2012-01-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101168913997 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009801495140 申请日:20091211

共 50 条

[1]

用于生产投射曝光设备的光学元件的中间产品、投射曝光设备的光学元件、中间产品的生产方法和光学元件的生产方法 [P].

S·霍夫曼 ;

C·施密特 .

德国专利 :CN119768735A ,2025-04-04

[2]

包括测量光学元件的测量系统的投射曝光设备 [P].

S.布雷迪斯特尔 ;

J.哈特杰斯 ;

T.格鲁纳 .

中国专利 :CN104145205B ,2014-11-12

[3]

反射光学元件、投射系统和投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根.曼 .

中国专利 :CN102193121B ,2011-09-21

[4]

用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置 [P].

V.库利特斯基 ;

B.盖尔里奇 ;

S.泽尔特 ;

关彦彬 ;

P.德费尔 ;

A.沃姆布兰德 .

中国专利 :CN105137718A ,2015-12-09

[5]

用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置 [P].

V.库利特斯基 ;

B.盖尔里奇 ;

S.泽尔特 ;

关彦彬 ;

P.德费尔 ;

A.沃姆布兰德 .

中国专利 :CN102549503A ,2012-07-04

[6]

用于半导体光刻的光学元件和投射曝光设备 [P].

D·巴德 ;

M·曼格 ;

M·拉布 ;

A·拉巴 .

德国专利 :CN119547015A ,2025-02-28

[7]

致动投射曝光设备中的元件的装置 [P].

M.豪夫 ;

U.舍恩霍夫 .

中国专利 :CN103502891B ,2014-01-08

[8]

光学元件、投射光学单元和投射曝光装置 [P].

J·库格勒 ;

M·内夫齐 ;

M·费策 .

德国专利 :CN117813556A ,2024-04-02

[9]

用以产生投射曝光装置的反射光学元件的方法、用于投射曝光装置的反射光学元件、投射镜头以及投射曝光装置 [P].

M.凯斯 ;

S.贝佐尔德 ;

M.曼格 ;

C.佩特里 ;

P.亚历克西夫 ;

W.保尔斯 .

中国专利 :CN112585537A ,2021-03-30

[10]

用以产生投射曝光装置的反射光学元件的方法、用于投射曝光装置的反射光学元件、投射镜头以及投射曝光装置 [P].

M.凯斯 ;

S.贝佐尔德 ;

M.曼格 ;

C.佩特里 ;

P.亚历克西夫 ;

W.保尔斯 .

德国专利 :CN112585537B ,2024-07-09

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