用于生产投射曝光设备的光学元件的中间产品、投射曝光设备的光学元件、中间产品的生产方法和光学元件的生产方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380061516.4

申请日：

2023-08-07

公开(公告)号：

CN119768735A

公开(公告)日：

2025-04-04

发明(设计)人：

S·霍夫曼 C·施密特

申请人：

卡尔蔡司SMT有限责任公司

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G02B5/08 G02B5/18 G21K1/06

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王蕊瑞

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-09-09	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/00申请日:20230807
2025-04-04	公开	公开

共 50 条

[1]

投射曝光设备中的光学元件的重力补偿 [P].

诺伯特.米尔伯格 ;

索斯滕.拉塞尔 ;

阿明.舍帕克 ;

于尔根.费希尔 ;

马赛厄斯.奥思 .

中国专利 :CN102265219B ,2011-11-30

[2]

用于半导体光刻的光学元件和投射曝光设备 [P].

D·巴德 ;

M·曼格 ;

M·拉布 ;

A·拉巴 .

德国专利 :CN119547015A ,2025-02-28

[3]

光学元件、投射光学单元和投射曝光装置 [P].

J·库格勒 ;

M·内夫齐 ;

M·费策 .

德国专利 :CN117813556A ,2024-04-02

[4]

反射光学元件、投射系统和投射曝光设备 [P].

汉斯-于尔根.曼 .

中国专利 :CN102193121B ,2011-09-21

[5]

用以产生投射曝光装置的反射光学元件的方法、用于投射曝光装置的反射光学元件、投射镜头以及投射曝光装置 [P].

M.凯斯 ;

S.贝佐尔德 ;

M.曼格 ;

C.佩特里 ;

P.亚历克西夫 ;

W.保尔斯 .

中国专利 :CN112585537A ,2021-03-30

[6]

用以产生投射曝光装置的反射光学元件的方法、用于投射曝光装置的反射光学元件、投射镜头以及投射曝光装置 [P].

M.凯斯 ;

S.贝佐尔德 ;

M.曼格 ;

C.佩特里 ;

P.亚历克西夫 ;

W.保尔斯 .

德国专利 :CN112585537B ,2024-07-09

[7]

包括测量光学元件的测量系统的投射曝光设备 [P].

S.布雷迪斯特尔 ;

J.哈特杰斯 ;

T.格鲁纳 .

中国专利 :CN104145205B ,2014-11-12

[8]

曝光设备的光学元件保持装置 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN100483251C ,2001-10-17

[9]

用于投射曝光系统的光学元件、包括该光学元件的光学系统以及包括该光学元件和/或该光学系统的投射曝光系统 [P].

S·A·毕西 ;

W·谢尔曼 ;

T·富泽尼格 ;

D·佩茨 ;

M·纳夫兹 ;

J·普罗克恩瑙 ;

J·库格勒 ;

M·费特泽尔 .

德国专利 :CN120019331A ,2025-05-16

[10]

用于对准光学元件的致动器装置和方法、光学组装件和投射曝光设备 [P].

B.普尼尼 .

德国专利 :CN113711099B ,2024-05-14

← 1 2 3 4 5 →