曝光设备的光学元件保持装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN01120775.2

申请日：

2001-03-30

公开(公告)号：

CN100483251C

公开(公告)日：

2001-10-17

发明(设计)人：

柴崎祐一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

叶恺东

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2003-05-28	实质审查的生效	实质审查的生效
2001-10-17	公开	公开
2009-04-29	授权	授权

共 50 条

[1]

光学元件保持装置、镜筒、曝光装置及设备的制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN100576003C ,2006-08-30

[2]

光学元件保持装置、镜筒、曝光装置以及器件的制造方法 [P].

冈田尚也 .

中国专利 :CN101772720A ,2010-07-07

[3]

光学元件保持装置、镜筒及曝光装置以及器件的制造方法 [P].

新井洋一 .

中国专利 :CN101681009B ,2010-03-24

[4]

光学元件保持架、光学元件保持装置以及蒸镀装置 [P].

清水浩 .

中国专利 :CN114807885A ,2022-07-29

[5]

光学元件的轴向定位保持装置 [P].

崔建波 ;

王洪尊 ;

刘宝会 .

中国专利 :CN102221786B ,2011-10-19

[6]

用于调准光学元件的光学器件保持装置 [P].

M·利尔曼 ;

M·沃尔夫 ;

J·德尔纳 ;

S·希拉里乌斯 ;

W·德瓦尔 .

中国专利 :CN105612451A ,2016-05-25

[7]

用于光学元件保持装置的适配器环和相关的光学元件保持装置 [P].

F·莫雷尼 ;

G·迪保拉 ;

A·科雷亚 ;

F·康吉亚 ;

G·A·邦吉奥诺 .

:CN117467960A ,2024-01-30

[8]

用于生产投射曝光设备的光学元件的中间产品、投射曝光设备的光学元件、中间产品的生产方法和光学元件的生产方法 [P].

S·霍夫曼 ;

C·施密特 .

德国专利 :CN119768735A ,2025-04-04

[9]

光学元件和曝光装置 [P].

白井健 ;

国分崇生 ;

石泽均 ;

村上敦信 .

中国专利 :CN1842892A ,2006-10-04

[10]

投射曝光设备中的光学元件的重力补偿 [P].

诺伯特.米尔伯格 ;

索斯滕.拉塞尔 ;

阿明.舍帕克 ;

于尔根.费希尔 ;

马赛厄斯.奥思 .

中国专利 :CN102265219B ,2011-11-30

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