处理液供给装置、基板处理系统及处理液供给方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680052890.8

申请日：

2016-07-05

公开(公告)号：

CN108025335A

公开(公告)日：

2018-05-11

发明(设计)人：

岩尾通矩

申请人：

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

B08B302

IPC分类号：

B05D300 H01L21304 B05C1110

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

向勇;宋晓宝

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-05-11	公开	公开
2018-06-05	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B08B 3/02 申请日:20160705
2021-03-19	授权	授权

共 50 条

[1]

处理液供给装置、基板处理装置及处理液供给方法 [P].

滩和成 .

日本专利 :CN119890075A ,2025-04-25

[2]

处理液供给装置以及基板处理系统 [P].

一野克宪 ;

中岛常长 ;

船越秀朗 ;

松冈伸明 ;

梶原正幸 .

中国专利 :CN109482381B ,2019-03-19

[3]

处理液供给装置及处理液供给方法 [P].

相原友明 ;

永田博史 ;

田原真二 .

日本专利 :CN121034993A ,2025-11-28

[4]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

徳利宪太郎 ;

田中洋一 .

中国专利 :CN111788660A ,2020-10-16

[5]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

太田乔 .

中国专利 :CN110114858A ,2019-08-09

[6]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

岩畑翔太 ;

樋口鲇美 ;

藤田惠理 ;

藤谷佳礼 ;

真野雅子 ;

竹松佑介 ;

奥谷洋介 .

中国专利 :CN109712910A ,2019-05-03

[7]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

徳利宪太郎 ;

田中洋一 .

日本专利 :CN111788660B ,2024-09-20

[8]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

井上正史 .

中国专利 :CN108630571A ,2018-10-09

[9]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

谷泽成规 ;

新庄淳一 ;

山本哲也 .

中国专利 :CN108511366A ,2018-09-07

[10]

处理液供给系统和处理液供给方法 [P].

植田稔彦 .

中国专利 :CN101807005B ,2010-08-18

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