一种光学超构表面、制备方法及加工装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202010304921.2
申请日
2020-04-17
公开(公告)号
CN111366991A
公开(公告)日
2020-07-03
发明(设计)人
刘言军 殷震 罗丹 李贵新
申请人
申请人地址
518000 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号
IPC主分类号
G02B100
IPC分类号
代理机构
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
孟金喆;潘登
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法 [P]. 
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[3]
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[4]
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[8]
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[9]
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刘思培 ;
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[10]
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万雅芳 ;
夏安南 ;
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