一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201710854313.7
申请日
2017-09-20
公开(公告)号
CN107561857A
公开(公告)日
2018-01-09
发明(设计)人
程鑫 李贵新 庄鑫 邓俊鸿
申请人
申请人地址
518000 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号
IPC主分类号
G03F700
IPC分类号
G03F7039
代理机构
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
巩克栋
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
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[10]
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