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一种大面积类金刚石化学气相沉积镀膜生产线
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201520561016.X
申请日
:
2015-07-29
公开(公告)号
:
CN205062179U
公开(公告)日
:
2016-03-02
发明(设计)人
:
郭爱云
周学卿
赵灿东
黄定平
申请人
:
申请人地址
:
517000 广东省河源市源城区龙岭工业园龙岭三路企业服务中心大楼331房
IPC主分类号
:
C23C1654
IPC分类号
:
C23C1626
C23C1650
代理机构
:
广州凯东知识产权代理有限公司 44259
代理人
:
罗丹
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-07-09
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 16/54 申请日:20150729 授权公告日:20160302 终止日期:20200729
2016-03-02
授权
授权
共 50 条
[1]
一种大面积类金刚石化学气相沉积镀膜生产线
[P].
郭爱云
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郭爱云
;
周学卿
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周学卿
;
赵灿东
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赵灿东
;
黄定平
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黄定平
.
中国专利
:CN104975275A
,2015-10-14
[2]
一种CVD金刚石化学气相沉积机构
[P].
刘宏明
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机构:
湖州中芯半导体科技有限公司
湖州中芯半导体科技有限公司
刘宏明
;
李升
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机构:
湖州中芯半导体科技有限公司
湖州中芯半导体科技有限公司
李升
.
中国专利
:CN222226547U
,2024-12-24
[3]
一种低温沉积大面积类金刚石薄膜的装置
[P].
钱锋
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钱锋
;
林晶
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林晶
;
何光发
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何光发
;
杨海友
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杨海友
.
中国专利
:CN201756583U
,2011-03-09
[4]
多层化学气相沉积金刚石复合片
[P].
龚闯
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龚闯
;
吴剑波
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吴剑波
;
朱长征
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朱长征
;
余斌
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余斌
.
中国专利
:CN206475522U
,2017-09-08
[5]
化学气相沉积金刚石均质喷嘴
[P].
周兵
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周兵
;
陈继锋
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陈继锋
;
刘志平
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刘志平
;
刘广录
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刘广录
;
郭松寿
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郭松寿
;
张柏春
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张柏春
.
中国专利
:CN2423289Y
,2001-03-14
[6]
光子-热丝化学气相沉积生长大面积金刚石薄膜的方法
[P].
申家镜
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申家镜
;
邵春雷
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邵春雷
;
彭鸿雁
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彭鸿雁
;
魏雪峰
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魏雪峰
.
中国专利
:CN1355329A
,2002-06-26
[7]
低温低压类金刚石膜化学气相沉积反应腔
[P].
不公告发明人
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不公告发明人
.
中国专利
:CN205839124U
,2016-12-28
[8]
化学气相沉积金刚石的装置
[P].
李凯
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机构:
江苏澜兴精密工具有限公司
江苏澜兴精密工具有限公司
李凯
;
于再林
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机构:
江苏澜兴精密工具有限公司
江苏澜兴精密工具有限公司
于再林
;
李明欣
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机构:
江苏澜兴精密工具有限公司
江苏澜兴精密工具有限公司
李明欣
.
中国专利
:CN117926214A
,2024-04-26
[9]
一种化学气相沉积金刚石装置
[P].
晏双利
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晏双利
.
中国专利
:CN101831626A
,2010-09-15
[10]
用于生产化学气相沉积金刚石的方法
[P].
G·威廉姆斯
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G·威廉姆斯
;
C·沃特
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C·沃特
.
中国专利
:CN114729468A
,2022-07-08
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