基板处理装置、基板处理方法及基板研磨方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011504421.X

申请日：

2020-12-18

公开(公告)号：

CN113001394A

公开(公告)日：

2021-06-22

发明(设计)人：

高田畅行安田穗积

申请人：

申请人地址：

日本国东京都大田区羽田旭町11番1号

IPC主分类号：

B24B3710

IPC分类号：

B24B3730 B24B3734 B24B2700 B24B4720 B24B4904 B24B4912 B24B53017 B24B5506 H01L2166 H01L2167

代理机构：

上海华诚知识产权代理有限公司 31300

代理人：

张丽颖

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

共 50 条

[1]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

高田畅行 ;

安田穗积 .

中国专利 :CN113211299A ,2021-08-06

[2]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

高田畅行 ;

安田穗积 .

日本专利 :CN113211299B ,2024-04-16

[3]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

大田浩平 ;

高田畅行 .

日本专利 :CN116745068B ,2025-07-22

[4]

基板处理装置 [P].

高田畅行 ;

安田穗积 .

日本专利 :CN113001394B ,2024-07-12

[5]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

高田畅行 ;

安田穗积 .

日本专利 :CN115087517B ,2024-04-05

[6]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

安陪裕滋 .

中国专利 :CN111715473B ,2020-09-29

[7]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

根本悠平 ;

林航之介 ;

长岛裕次 ;

秋本纱希 ;

松下淳 .

中国专利 :CN111710625A ,2020-09-25

[8]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

松下淳 ;

长岛裕次 ;

土持鹰彬 ;

秋本纱希 ;

林航之介 .

中国专利 :CN111710624A ,2020-09-25

[9]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

高田畅行 ;

安田穗积 .

中国专利 :CN115087517A ,2022-09-20

[10]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

松下淳 ;

长岛裕次 ;

秋本纱希 .

中国专利 :CN111710626A ,2020-09-25

← 1 2 3 4 5 →

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-08-05	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/10 申请日:20201218
2021-06-22	公开	公开