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基板处理装置及基板处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110153214.2
申请日
:
2021-02-04
公开(公告)号
:
CN113211299B
公开(公告)日
:
2024-04-16
发明(设计)人
:
高田畅行
安田穗积
申请人
:
株式会社荏原制作所
申请人地址
:
日本国东京都大田区羽田旭町11番1号
IPC主分类号
:
B24B37/07
IPC分类号
:
B24B37/10
B24B37/20
B24B37/34
代理机构
:
上海华诚知识产权代理有限公司 31300
代理人
:
张丽颖
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-04-16
授权
授权
共 50 条
[1]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
高田畅行
论文数:
0
引用数:
0
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0
高田畅行
;
安田穗积
论文数:
0
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安田穗积
.
中国专利
:CN113211299A
,2021-08-06
[2]
基板处理装置、基板处理方法及基板研磨方法
[P].
高田畅行
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高田畅行
;
安田穗积
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安田穗积
.
中国专利
:CN113001394A
,2021-06-22
[3]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
大田浩平
论文数:
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0
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
大田浩平
;
高田畅行
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
高田畅行
.
日本专利
:CN116745068B
,2025-07-22
[4]
基板处理装置
[P].
高田畅行
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
高田畅行
;
安田穗积
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
安田穗积
.
日本专利
:CN113001394B
,2024-07-12
[5]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
高田畅行
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
高田畅行
;
安田穗积
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
安田穗积
.
日本专利
:CN115087517B
,2024-04-05
[6]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
安陪裕滋
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安陪裕滋
.
中国专利
:CN111715473B
,2020-09-29
[7]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
根本悠平
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根本悠平
;
林航之介
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林航之介
;
长岛裕次
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长岛裕次
;
秋本纱希
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秋本纱希
;
松下淳
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0
松下淳
.
中国专利
:CN111710625A
,2020-09-25
[8]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
松下淳
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松下淳
;
长岛裕次
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长岛裕次
;
土持鹰彬
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土持鹰彬
;
秋本纱希
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秋本纱希
;
林航之介
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林航之介
.
中国专利
:CN111710624A
,2020-09-25
[9]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
高田畅行
论文数:
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高田畅行
;
安田穗积
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安田穗积
.
中国专利
:CN115087517A
,2022-09-20
[10]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
松下淳
论文数:
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松下淳
;
长岛裕次
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0
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长岛裕次
;
秋本纱希
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秋本纱希
.
中国专利
:CN111710626A
,2020-09-25
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