沟槽式金属氧化物半导体场效应管

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201910791060.2
申请日
2019-08-26
公开(公告)号
CN110534574A
公开(公告)日
2019-12-03
发明(设计)人
谢福渊
申请人
申请人地址
中国台湾新北市中和区中正路637巷1号
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L2940 H01L29423
代理机构
上海申汇专利代理有限公司 31001
代理人
徐俊
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
谢福渊 .
中国专利 :CN110534574B ,2024-05-17
[2]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
谢福渊 .
中国专利 :CN103730500A ,2014-04-16
[3]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
谢福渊 .
中国专利 :CN110620152A ,2019-12-27
[4]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
谢福渊 .
中国专利 :CN103515439A ,2014-01-15
[5]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
谢福渊 .
中国专利 :CN103730499A ,2014-04-16
[6]
短沟道沟槽式金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
谢福渊 .
中国专利 :CN103872133A ,2014-06-18
[7]
一种沟槽式金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
谢福渊 .
中国专利 :CN102856380A ,2013-01-02
[8]
一种沟槽金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
谢福渊 .
中国专利 :CN104078507A ,2014-10-01
[9]
一种沟槽金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
谢福渊 .
中国专利 :CN102222618B ,2011-10-19
[10]
沟槽金属氧化物半导体场效应管的制造方法 [P]. 
汉密尔顿·卢 ;
拉兹洛·利普赛依 .
中国专利 :CN102347278A ,2012-02-08