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沟槽式金属氧化物半导体场效应管
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910791059.X
申请日
:
2019-08-26
公开(公告)号
:
CN110620152A
公开(公告)日
:
2019-12-27
发明(设计)人
:
谢福渊
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新北市中和区中正路637巷1号
IPC主分类号
:
H01L2978
IPC分类号
:
H01L29423
H01L2906
代理机构
:
上海申汇专利代理有限公司 31001
代理人
:
徐俊
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-01-21
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 申请日:20190826
2019-12-27
公开
公开
共 50 条
[1]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管
[P].
谢福渊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
谢福渊
.
中国专利
:CN103730500A
,2014-04-16
[2]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管
[P].
谢福渊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
谢福渊
.
中国专利
:CN110534574A
,2019-12-03
[3]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管
[P].
谢福渊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
谢福渊
.
中国专利
:CN103515439A
,2014-01-15
[4]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管
[P].
谢福渊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
谢福渊
.
中国专利
:CN103730499A
,2014-04-16
[5]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管
[P].
谢福渊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
娜美半导体有限公司
娜美半导体有限公司
谢福渊
.
中国专利
:CN110534574B
,2024-05-17
[6]
一种屏蔽栅沟槽式金属氧化物半导体场效应管
[P].
谢福渊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
谢福渊
.
中国专利
:CN111509049A
,2020-08-07
[7]
一种屏蔽栅沟槽式金属氧化物半导体场效应管
[P].
原小明
论文数:
0
引用数:
0
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0
原小明
.
中国专利
:CN111969059A
,2020-11-20
[8]
短沟道沟槽式金属氧化物半导体场效应管
[P].
谢福渊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
谢福渊
.
中国专利
:CN103872133A
,2014-06-18
[9]
沟槽金属氧化物半导体场效应管的制造方法
[P].
汉密尔顿·卢
论文数:
0
引用数:
0
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0
汉密尔顿·卢
;
拉兹洛·利普赛依
论文数:
0
引用数:
0
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0
拉兹洛·利普赛依
.
中国专利
:CN102347278A
,2012-02-08
[10]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管器件及其制造方法
[P].
刘莒光
论文数:
0
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0
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0
刘莒光
;
罗祎仑
论文数:
0
引用数:
0
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0
罗祎仑
.
中国专利
:CN113035931A
,2021-06-25
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