沟槽式金属氧化物半导体场效应管

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201910791059.X
申请日
2019-08-26
公开(公告)号
CN110620152A
公开(公告)日
2019-12-27
发明(设计)人
谢福渊
申请人
申请人地址
中国台湾新北市中和区中正路637巷1号
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L29423 H01L2906
代理机构
上海申汇专利代理有限公司 31001
代理人
徐俊
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
谢福渊 .
中国专利 :CN103730500A ,2014-04-16
[2]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
谢福渊 .
中国专利 :CN110534574A ,2019-12-03
[3]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
谢福渊 .
中国专利 :CN103515439A ,2014-01-15
[4]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
谢福渊 .
中国专利 :CN103730499A ,2014-04-16
[5]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
谢福渊 .
中国专利 :CN110534574B ,2024-05-17
[6]
一种屏蔽栅沟槽式金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
谢福渊 .
中国专利 :CN111509049A ,2020-08-07
[7]
一种屏蔽栅沟槽式金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
原小明 .
中国专利 :CN111969059A ,2020-11-20
[8]
短沟道沟槽式金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
谢福渊 .
中国专利 :CN103872133A ,2014-06-18
[9]
沟槽金属氧化物半导体场效应管的制造方法 [P]. 
汉密尔顿·卢 ;
拉兹洛·利普赛依 .
中国专利 :CN102347278A ,2012-02-08
[10]
沟槽式金属氧化物半导体场效应管器件及其制造方法 [P]. 
刘莒光 ;
罗祎仑 .
中国专利 :CN113035931A ,2021-06-25