基板处理设备、用于处理基板的方法和基板处理系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610214879.9

申请日：

2016-04-08

公开(公告)号：

CN106067430A

公开(公告)日：

2016-11-02

发明(设计)人：

金一焕裵相泫李赫宰赵泰济崔光喆

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道水原市

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L2102 H01L21304

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司 11286

代理人：

王占杰;韩素云

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-03-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20160408
2020-08-28	发明专利申请公布后的撤回	发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):H01L 21/67 申请公布日:20161102
2016-11-02	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理设备和基板处理系统 [P].

李尚奂 ;

张容硕 .

中国专利 :CN115483130A ,2022-12-16

[2]

基板处理设备和基板处理系统 [P].

李尚奂 ;

张容硕 .

韩国专利 :CN115483130B ,2025-02-14

[3]

基板处理装置、基板处理方法和基板处理系统 [P].

井上正史 ;

泷昭彦 ;

谷口宽树 ;

田中孝佳 ;

中野佑太 .

中国专利 :CN108257890B ,2018-07-06

[4]

基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统 [P].

有贺美辉 ;

山崎和良 ;

青山真太郎 ;

下村晃司 .

中国专利 :CN101326620B ,2008-12-17

[5]

基板处理方法、基板处理系统和基板处理装置 [P].

榎本正志 ;

近藤良弘 .

中国专利 :CN107533955A ,2018-01-02

[6]

基板处理装置、基板处理系统和基板处理方法 [P].

刘福强 ;

王嘉琪 ;

史霄 ;

张康 ;

吴尚东 .

中国专利 :CN117650079A ,2024-03-05

[7]

基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统 [P].

村冈祐介 ;

齐藤公续 ;

岩田智巳 ;

深津英司 ;

溝端一国雄 ;

上野博之 ;

奥山靖夫 ;

蒲隆 ;

坂下由彦 ;

渡边克充 ;

宗政淳 ;

大柴久典 ;

猿丸正悟 .

中国专利 :CN1501439A ,2004-06-02

[8]

基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统 [P].

安俊建 ;

李廷焕 ;

权五烈 ;

朴修永 ;

梁承太 .

中国专利 :CN111843218A ,2020-10-30

[9]

用于处理基板的基板支撑件、真空处理设备和基板处理系统 [P].

西蒙·刘 ;

莱内尔·欣特舒斯特 ;

安科·赫尔密西 .

中国专利 :CN111373503A ,2020-07-03

[10]

基板处理方法和基板处理系统 [P].

熊谷圭惠 ;

须田隆太郎 ;

户村幕树 ;

大内健次 ;

村上博纪 ;

加贺谷宗仁 ;

酒井宗一朗 .

中国专利 :CN114512398A ,2022-05-17

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