用于处理基板的基板支撑件、真空处理设备和基板处理系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780097049.5

申请日：

2017-11-20

公开(公告)号：

CN111373503A

公开(公告)日：

2020-07-03

发明(设计)人：

西蒙·刘莱内尔·欣特舒斯特安科·赫尔密西

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

C23C1450 C23C16458 H01L21687

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国;赵静

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-03	公开	公开
2020-07-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20171120

共 50 条

[1]

基板支撑件、真空处理设备及基板处理系统 [P].

西蒙·刘 ;

安科·赫尔密西 ;

莱内尔·欣特舒斯特 .

中国专利 :CN211929431U ,2020-11-13

[2]

用于处理基板的方法、用于真空处理的设备和真空处理系统 [P].

塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 ;

马蒂亚斯·赫曼尼斯 ;

托马索·维尔切斯 ;

斯蒂芬·班格特 .

中国专利 :CN110494587A ,2019-11-22

[3]

真空处理设备以及用于处理基板的方法 [P].

马库斯·哈尼卡 ;

约瑟夫·C·奥尔森 ;

彼得·F·库伦齐 ;

任东吉 ;

马库斯·本德 .

中国专利 :CN111902563A ,2020-11-06

[4]

基板处理设备、用于处理基板的方法和基板处理系统 [P].

金一焕 ;

裵相泫 ;

李赫宰 ;

赵泰济 ;

崔光喆 .

中国专利 :CN106067430A ,2016-11-02

[5]

基板处理设备和基板处理系统 [P].

李尚奂 ;

张容硕 .

中国专利 :CN115483130A ,2022-12-16

[6]

基板处理设备和基板处理系统 [P].

李尚奂 ;

张容硕 .

韩国专利 :CN115483130B ,2025-02-14

[7]

基板处理系统、用于真空处理系统的基板腔室以及冷却基板的方法 [P].

哈利埃卢拉·谢里夫 ;

布里希·拉贾 .

中国专利 :CN113287194A ,2021-08-20

[8]

基板处理系统、用于真空处理系统的基板腔室以及冷却基板的方法 [P].

哈利埃卢拉·谢里夫 ;

布里希·拉贾 .

美国专利 :CN113287194B ,2024-12-24

[9]

用于处理基板的基板处理系统 [P].

J.德扬 .

中国专利 :CN113611644A ,2021-11-05

[10]

半导体被处理基板的真空处理系统及半导体被处理基板的真空处理方法 [P].

田内勤 ;

近藤英明 ;

仲田辉男 ;

野木庆太 ;

下田笃 ;

智田崇文 .

中国专利 :CN102064124A ,2011-05-18

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