用于处理基板的方法、用于真空处理的设备和真空处理系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880003483.7

申请日：

2018-03-14

公开(公告)号：

CN110494587A

公开(公告)日：

2019-11-22

发明(设计)人：

塞巴斯蒂安·巩特尔·臧马蒂亚斯·赫曼尼斯托马索·维尔切斯斯蒂芬·班格特

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

C23C1404

IPC分类号：

C23C1454 H01L5156

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国;赵静

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-11-22	公开	公开
2021-12-07	授权	授权
2019-12-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/04 申请日:20180314

共 50 条

[1]

真空处理装置、真空处理系统和真空处理方法 [P].

山岸孝幸 ;

小林民宏 .

中国专利 :CN110610873B ,2019-12-24

[2]

真空处理装置、真空处理系统和处理方法 [P].

南雅人 ;

佐佐木芳彦 ;

佐佐木和男 .

中国专利 :CN101752173A ,2010-06-23

[3]

真空处理系统和用于真空处理一个或多个基板的方法 [P].

史蒂文·波普 ;

拉尔夫·林登伯格 .

中国专利 :CN109819663A ,2019-05-28

[4]

用于真空处理系统的负载锁定腔室和真空处理系统 [P].

F·皮耶拉利西 ;

T·格贝勒 .

中国专利 :CN106232863A ,2016-12-14

[5]

真空处理系统以及操作真空处理系统的方法 [P].

斯蒂芬·班格特 ;

沃尔夫冈·布什贝克 ;

托马斯·伯杰 .

中国专利 :CN110651361A ,2020-01-03

[6]

真空处理系统及操作真空处理系统的方法 [P].

塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 ;

于尔根·亨里奇 ;

安德烈亚斯·索尔 .

中国专利 :CN110612362A ,2019-12-24

[7]

真空处理设备和用于真空处理基底的方法 [P].

S.施维恩-托伊 ;

R.戈德 ;

M.彻西尤克 ;

M.帕德伦 .

中国专利 :CN107923037A ,2018-04-17

[8]

真空处理系统 [P].

宫下哲也 ;

多田宪伦 .

中国专利 :CN101688303A ,2010-03-31

[9]

真空处理系统 [P].

王天邻 ;

谢斌平 ;

陈飞 ;

陈志刚 .

中国专利 :CN222961529U ,2025-06-10

[10]

真空处理系统 [P].

胡兵 ;

吴红星 ;

周艳 ;

王谦 .

中国专利 :CN103199034B ,2013-07-10

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