基板处理系统、用于真空处理系统的基板腔室以及冷却基板的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980088736.X

申请日：

2019-01-16

公开(公告)号：

CN113287194B

公开(公告)日：

2024-12-24

发明(设计)人：

哈利埃卢拉·谢里夫布里希·拉贾

申请人：

应用材料公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

H01L21/677 H01L21/324 H01L21/56

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国;赵静

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-24	授权	授权

共 50 条

[1]

基板处理系统、用于真空处理系统的基板腔室以及冷却基板的方法 [P].

哈利埃卢拉·谢里夫 ;

布里希·拉贾 .

中国专利 :CN113287194A ,2021-08-20

[2]

基板清洗装置以及真空处理系统 [P].

土桥和也 ;

井内健介 ;

清水昭贵 ;

安田健太 ;

吉野裕 ;

相田敏广 ;

妹尾武彦 .

中国专利 :CN102728580A ,2012-10-17

[3]

用于处理基板的方法、用于真空处理的设备和真空处理系统 [P].

塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 ;

马蒂亚斯·赫曼尼斯 ;

托马索·维尔切斯 ;

斯蒂芬·班格特 .

中国专利 :CN110494587A ,2019-11-22

[4]

用于处理基板的基板支撑件、真空处理设备和基板处理系统 [P].

西蒙·刘 ;

莱内尔·欣特舒斯特 ;

安科·赫尔密西 .

中国专利 :CN111373503A ,2020-07-03

[5]

基板处理系统、用于基板处理系统的真空旋转模块以及用于操作基板处理系统的方法 [P].

T·伯格 ;

R·林德伯格 .

中国专利 :CN106165081A ,2016-11-23

[6]

摆动设备、处理基板的方法、用于从传递腔室接收基板的摆动模块和真空处理系统 [P].

金庆泰 ;

洛克莎·雷迪 ;

佐木马·山木甘 ;

细川昭弘 .

美国专利 :CN112313784B ,2025-11-25

[7]

摆动设备、处理基板的方法、用于从传递腔室接收基板的摆动模块和真空处理系统 [P].

金庆泰 ;

洛克莎·雷迪 ;

佐木马·山木甘 ;

细川昭弘 .

中国专利 :CN112313784A ,2021-02-02

[8]

基板处理系统以及用于处理基板的方法 [P].

王柏伟 ;

赖朝兴 .

中国专利 :CN115110046B ,2024-05-07

[9]

基板处理系统以及用于处理基板的方法 [P].

王柏伟 ;

赖朝兴 .

中国专利 :CN115110046A ,2022-09-27

[10]

用于真空处理系统的负载锁定腔室和真空处理系统 [P].

F·皮耶拉利西 ;

T·格贝勒 .

中国专利 :CN106232863A ,2016-12-14

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