真空处理设备以及用于处理基板的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880091795.8

申请日：

2018-11-29

公开(公告)号：

CN111902563A

公开(公告)日：

2020-11-06

发明(设计)人：

马库斯·哈尼卡约瑟夫·C·奥尔森彼得·F·库伦齐任东吉马库斯·本德

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

C23C1456

IPC分类号：

C23C1450 H01L21677 H01L2167 B65G4906 H01L21687

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国;赵静

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-11-06	公开	公开
2020-11-24	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/56 申请日:20181129

共 50 条

[1]

真空处理设备和在真空处理设备中加热基板的方法 [P].

克里斯托弗·马尔姆斯 ;

丹尼尔·谢弗-科皮托 ;

托拜西·伯格曼 .

中国专利 :CN115516128A ,2022-12-23

[2]

真空处理设备和用于真空处理基底的方法 [P].

S.施维恩-托伊 ;

R.戈德 ;

M.彻西尤克 ;

M.帕德伦 .

中国专利 :CN107923037A ,2018-04-17

[3]

用于清洁真空系统的方法、用于真空处理基板的方法以及用于真空处理基板的设备 [P].

曼纽尔·拉德克 ;

托马斯·格比利 ;

沃尔夫冈·布什贝克 .

中国专利 :CN113412166A ,2021-09-17

[4]

用于清洁真空系统的方法、用于真空处理基板的方法以及用于真空处理基板的设备 [P].

曼纽尔·拉德克 ;

伊里特·拉奇·尼尔 ;

克菲尔·卢里亚 ;

盖伊·伊坦 .

中国专利 :CN113365747A ,2021-09-07

[5]

用于清洁真空腔室的方法、用于真空处理基板的方法以及用于真空处理基板的设备 [P].

曼纽尔·拉德克 ;

托马斯·格比利 ;

沃尔夫冈·布什贝克 .

美国专利 :CN113412166B ,2024-02-20

[6]

真空处理设备和真空处理衬底的方法 [P].

M·布莱斯 ;

T·纳蒂格 .

中国专利 :CN112789717A ,2021-05-11

[7]

真空处理设备及真空处理设备的控制方法 [P].

张波 ;

余龙 ;

耿生煌 .

中国专利 :CN119121164A ,2024-12-13

[8]

用于处理基板的基板支撑件、真空处理设备和基板处理系统 [P].

西蒙·刘 ;

莱内尔·欣特舒斯特 ;

安科·赫尔密西 .

中国专利 :CN111373503A ,2020-07-03

[9]

显示基板制造方法以及真空处理设备 [P].

井上雅人 ;

松井绅 .

中国专利 :CN101399175A ,2009-04-01

[10]

真空处理设备和真空处理方法 [P].

佐长谷肇 ;

渡边直树 ;

徐舸 .

中国专利 :CN102191480A ,2011-09-21

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