显示基板制造方法以及真空处理设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810165682.6

申请日：

2008-09-24

公开(公告)号：

CN101399175A

公开(公告)日：

2009-04-01

发明(设计)人：

井上雅人松井绅

申请人：

申请人地址：

日本神奈川

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L21683

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

史雁鸣

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-05-27	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-06-23	授权	授权
2014-11-12	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101588384432 IPC(主分类):H01L 21/00 专利号:ZL2008101656826 申请日:20080924 授权公告日:20100623 终止日期:20130924
2009-04-01	公开	公开

共 50 条

[1]

真空处理设备、使用该真空处理设备制造图像显示设备的方法以及由该真空处理设备制造的电子装置 [P].

井上雅人 ;

松井绅 ;

姬路俊明 .

中国专利 :CN101790597A ,2010-07-28

[2]

真空处理设备以及用于处理基板的方法 [P].

马库斯·哈尼卡 ;

约瑟夫·C·奥尔森 ;

彼得·F·库伦齐 ;

任东吉 ;

马库斯·本德 .

中国专利 :CN111902563A ,2020-11-06

[3]

基板保持设备、掩模定位方法以及真空处理设备 [P].

岛根由光 ;

山口述夫 .

中国专利 :CN101996919B ,2011-03-30

[4]

真空处理设备和在真空处理设备中加热基板的方法 [P].

克里斯托弗·马尔姆斯 ;

丹尼尔·谢弗-科皮托 ;

托拜西·伯格曼 .

中国专利 :CN115516128A ,2022-12-23

[5]

真空处理设备、真空处理方法、电子装置及其制造方法 [P].

吉冈胜也 .

中国专利 :CN101567311A ,2009-10-28

[6]

真空处理设备、真空处理方法和电子装置制造方法 [P].

山本一 ;

今井洋之 .

中国专利 :CN102047406A ,2011-05-04

[7]

真空处理设备和制造方法 [P].

B.肖特范马斯特 ;

W.里伊茨勒 ;

R.洛德 ;

R.巴滋伦 ;

D.罗雷尔 .

中国专利 :CN103299413A ,2013-09-11

[8]

真空处理设备和真空处理方法 [P].

佐长谷肇 ;

渡边直树 ;

徐舸 .

中国专利 :CN102191480A ,2011-09-21

[9]

真空处理设备和真空处理方法 [P].

J·拉姆 ;

B·威德里格 ;

S·卡塞曼 ;

M·D·皮门塔 ;

O·马斯勒 ;

B·汉塞尔曼 .

中国专利 :CN101743338A ,2010-06-16

[10]

真空处理设备、控制真空处理设备的方法及器件制造方法 [P].

白井泰幸 .

中国专利 :CN101532582A ,2009-09-16

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