半导体元件及其制作方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201110213145.6
申请日
2011-07-28
公开(公告)号
CN102903751A
公开(公告)日
2013-01-30
发明(设计)人
吴俊元 刘志建
申请人
申请人地址
中国台湾新竹科学工业园区
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L2906 H01L21336 H01L21762
代理机构
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
陈小雯
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体元件及其制作方法 [P]. 
王慧琳 ;
刘盈成 ;
施易安 ;
李怡慧 ;
翁宸毅 ;
谢晋阳 ;
曾奕铭 ;
张境尹 ;
王裕平 .
中国专利 :CN111564468A ,2020-08-21
[2]
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永井享浩 ;
戎乐天 .
中国专利 :CN108630612A ,2018-10-09
[3]
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马瑞吉 ;
苏治维 ;
温哲民 .
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[4]
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许家福 .
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[5]
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马瑞吉 ;
林家辉 ;
杨国裕 .
中国专利 :CN110021559A ,2019-07-16
[6]
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姜元升 ;
陈炫旭 .
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[7]
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郑振辉 ;
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蔡明桓 ;
聂俊峰 ;
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[8]
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李健逢 ;
张嘉骅 ;
颜湘婕 .
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[9]
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李国兴 ;
薛胜元 ;
邱永振 ;
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[10]
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吴铁将 .
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