学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
一种光刻机用晶圆片匀胶装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201721240564.8
申请日
:
2017-09-26
公开(公告)号
:
CN207337070U
公开(公告)日
:
2018-05-08
发明(设计)人
:
吴琼
唐进强
申请人
:
申请人地址
:
350000 福建省福州市闽侯县南屿镇新联村6号
IPC主分类号
:
G03F716
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
授权
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-05-08
授权
授权
共 50 条
[1]
一种光刻机用晶圆片匀胶装置
[P].
卫广连
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
卫广连
;
叶东国
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
叶东国
;
付志江
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
付志江
.
中国专利
:CN213715698U
,2021-07-16
[2]
一种光刻机用晶圆片匀胶装置
[P].
侯玉闯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
侯玉闯
;
薛鹏
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
薛鹏
.
中国专利
:CN108646517A
,2018-10-12
[3]
一种光刻机用晶圆片匀胶装置
[P].
孙晓东
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海讯颖电子科技有限公司
上海讯颖电子科技有限公司
孙晓东
;
闻杰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海讯颖电子科技有限公司
上海讯颖电子科技有限公司
闻杰
.
中国专利
:CN220290026U
,2024-01-02
[4]
一种光刻机用晶圆片匀胶装置
[P].
刘健
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘健
.
中国专利
:CN214375811U
,2021-10-08
[5]
一种光刻机用晶圆片匀胶机构
[P].
胡德立
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
胡德立
.
中国专利
:CN217085506U
,2022-07-29
[6]
一种光刻机用晶圆片涂胶系统
[P].
覃冬梅
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
覃冬梅
.
中国专利
:CN110665761A
,2020-01-10
[7]
一种光刻机用晶圆片涂胶系统
[P].
王青
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王青
;
江振
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
江振
.
中国专利
:CN108649004B
,2018-10-12
[8]
光刻机用晶圆对准装置及光刻机
[P].
张琪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
新毅东(北京)科技有限公司
新毅东(北京)科技有限公司
张琪
;
符友银
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
新毅东(北京)科技有限公司
新毅东(北京)科技有限公司
符友银
.
中国专利
:CN120010198A
,2025-05-16
[9]
一种光刻机用多尺寸晶圆载片台
[P].
徐卫星
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
赛光半导体科技(苏州)有限公司
赛光半导体科技(苏州)有限公司
徐卫星
.
中国专利
:CN221960408U
,2024-11-05
[10]
光刻机晶圆载台
[P].
不公告发明人
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
不公告发明人
.
中国专利
:CN208689361U
,2019-04-02
←
1
2
3
4
5
→