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光刻胶的参数检测方法及装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610311869.7
申请日
:
2016-05-11
公开(公告)号
:
CN106053355A
公开(公告)日
:
2016-10-26
发明(设计)人
:
钱娟娟
马超
黄胜
徐海涛
江涛
张慧文
齐发
申请人
:
申请人地址
:
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
IPC主分类号
:
G01N2127
IPC分类号
:
G01B1106
代理机构
:
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138
代理人
:
滕一斌
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-11-23
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101688774229 IPC(主分类):G01N 21/27 专利申请号:2016103118697 申请日:20160511
2016-10-26
公开
公开
2019-08-02
授权
授权
共 50 条
[1]
内置光刻胶检测单元的退火装置、光刻胶的检测方法
[P].
王硕
论文数:
0
引用数:
0
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0
王硕
;
许忠义
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许忠义
.
中国专利
:CN102354665A
,2012-02-15
[2]
光刻胶、光刻缺陷检测装置和方法
[P].
欧姣
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
欧姣
;
官锡俊
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0
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
官锡俊
.
中国专利
:CN120255287A
,2025-07-04
[3]
光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法
[P].
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机构:
徐宏
;
论文数:
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机构:
何向明
;
刘天棋
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机构:
清华大学
清华大学
刘天棋
.
中国专利
:CN115903376B
,2025-01-14
[4]
光刻胶及光刻方法
[P].
袁华
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袁华
;
黄永发
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黄永发
;
杨尚勇
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杨尚勇
;
胡展源
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胡展源
.
中国专利
:CN110501873A
,2019-11-26
[5]
光刻胶厚度异常的检测方法
[P].
杨晓松
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杨晓松
;
易旭东
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易旭东
.
中国专利
:CN106154755A
,2016-11-23
[6]
光刻胶去除方法及光刻胶重制方法
[P].
邱靖尧
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邱靖尧
;
谢玟茜
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谢玟茜
;
刘立尧
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刘立尧
;
胡展源
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胡展源
.
中国专利
:CN110581065A
,2019-12-17
[7]
光刻胶回吸装置、光刻胶涂布设备及光刻胶涂布方法
[P].
金在植
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金在植
;
张成根
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张成根
;
林锺吉
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林锺吉
;
贺晓彬
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贺晓彬
;
杨涛
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杨涛
;
李俊峰
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李俊峰
;
王文武
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王文武
.
中国专利
:CN114054287A
,2022-02-18
[8]
光刻胶前烘方法、装置及光刻设备
[P].
卢彦春
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0
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0
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0
卢彦春
.
中国专利
:CN106125520A
,2016-11-16
[9]
检测光刻胶缺陷的方法
[P].
胡林
论文数:
0
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0
胡林
.
中国专利
:CN102496586B
,2012-06-13
[10]
光刻胶去除装置和去除光刻胶的方法
[P].
张凇铭
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张凇铭
;
惠世鹏
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惠世鹏
;
刘效岩
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刘效岩
.
中国专利
:CN111610698A
,2020-09-01
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