利用单图案化隔离件技术的双图案化技术

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110241621.5

申请日：

2011-08-17

公开(公告)号：

CN102456550A

公开(公告)日：

2012-05-16

发明(设计)人：

陈皇宇谢艮轩欧宗桦范芳瑜侯元德谢铭峰刘如淦鲁立忠

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

H01L2100 H01L21308 H01L21768

代理机构：

北京德恒律师事务所 11306

代理人：

陆鑫;高雪琴

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-06-27	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101274710727 IPC(主分类):H01L 21/027 专利申请号:2011102416215 申请日:20110817
2012-05-16	公开	公开
2014-03-19	授权	授权

共 50 条

[1]

利用单图案化隔离件技术的双图案化技术 [P].

陈皇宇 ;

谢艮轩 ;

欧宗桦 ;

范芳瑜 ;

侯元德 ;

谢铭峰 ;

刘如淦 ;

鲁立忠 .

中国专利 :CN103745921B ,2014-04-23

[2]

衬底边缘图案化技术 [P].

K·F·佰斯特 ;

M·霍华德 ;

D·A·布朗 ;

G·塔斯 .

美国专利 :CN121039572A ,2025-11-28

[3]

垂直固态器件的图案化技术 [P].

戈尔拉玛瑞扎·恰吉 ;

劳伦·莱泽根特 ;

埃桑诺拉·法蒂 ;

阿龙·丹尼尔·特伦特·维尔斯马 .

中国专利 :CN113939897A ,2022-01-14

[4]

双掩模自对准双图案化技术(SaDPT)工艺 [P].

S·M·列扎·萨贾迪 ;

李路明 ;

安德鲁·R·罗马诺 .

中国专利 :CN101971291A ,2011-02-09

[5]

利用自对准双图案化技术于网格外布线结构的方法 [P].

袁磊 ;

J·桂 ;

H·J·莱文森 .

中国专利 :CN104064515A ,2014-09-24

[6]

用于多重图案化技术的单元布局 [P].

陈皇宇 ;

侯元德 ;

谢艮轩 ;

刘如淦 ;

鲁立忠 .

中国专利 :CN102542099B ,2012-07-04

[7]

用于多重图案化技术的导线布线 [P].

萧有呈 ;

詹伟闵 ;

谢艮轩 .

中国专利 :CN103972157A ,2014-08-06

[8]

双图案化技术中减少颜色密度差异的针脚嵌入 [P].

王道宁 ;

S·马达范 ;

路易奇卡波迪耶西 .

中国专利 :CN104051234B ,2014-09-17

[9]

用于实现最小图案失配的多重图案化技术方法和系统 [P].

张峰铭 ;

杨昌达 ;

王屏薇 ;

曹敏 .

中国专利 :CN103065947B ,2013-04-24

[10]

用双重间隔物图案化技术形成半导体器件精细图案的方法 [P].

李基领 ;

卜喆圭 ;

金原圭 .

中国专利 :CN103545193A ,2014-01-29

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