用于多重图案化技术的单元布局

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110419100.4

申请日：

2011-12-14

公开(公告)号：

CN102542099B

公开(公告)日：

2012-07-04

发明(设计)人：

陈皇宇侯元德谢艮轩刘如淦鲁立忠

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹

IPC主分类号：

G06F1750

IPC分类号：

代理机构：

北京德恒律师事务所 11306

代理人：

陆鑫;房岭梅

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-12-25	授权	授权
2012-07-04	公开	公开
2012-09-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101322524685 IPC(主分类):G06F 17/50 专利申请号:2011104191004 申请日:20111214

共 50 条

[1]

用于多重图案化技术的导线布线 [P].

萧有呈 ;

詹伟闵 ;

谢艮轩 .

中国专利 :CN103972157A ,2014-08-06

[2]

用于实现最小图案失配的多重图案化技术方法和系统 [P].

张峰铭 ;

杨昌达 ;

王屏薇 ;

曹敏 .

中国专利 :CN103065947B ,2013-04-24

[3]

用于自对准多重图案化技术的间隙壁形成 [P].

埃里克·柳 ;

阿基特若·高 .

中国专利 :CN109997211A ,2019-07-09

[4]

用于多重图案化技术的设计规则检查的方法和系统 [P].

徐孟楷 ;

侯元德 ;

陈文豪 .

中国专利 :CN107145618A ,2017-09-08

[5]

确定多重图案化步骤叠加误差 [P].

A·古普塔 ;

夏清 ;

O·莫罗 ;

K·拉娅 .

中国专利 :CN107743596A ,2018-02-27

[6]

制作与双重图案化技术兼容的转折布局绕线的方法 [P].

袁磊 ;

J·桂 .

中国专利 :CN103311102B ,2013-09-18

[7]

用于双重图案化设计的掩模处理 [P].

杨景峰 ;

陈启平 ;

陈殿豪 .

中国专利 :CN103367119A ,2013-10-23

[8]

使用双重图案化技术在副轴上形成CMOS栅极的方法 [P].

格雷戈里·查尔斯·鲍德温 ;

斯科特·威廉·耶森 .

中国专利 :CN104716031B ,2015-06-17

[9]

利用单图案化隔离件技术的双图案化技术 [P].

陈皇宇 ;

谢艮轩 ;

欧宗桦 ;

范芳瑜 ;

侯元德 ;

谢铭峰 ;

刘如淦 ;

鲁立忠 .

中国专利 :CN103745921B ,2014-04-23

[10]

利用单图案化隔离件技术的双图案化技术 [P].

陈皇宇 ;

谢艮轩 ;

欧宗桦 ;

范芳瑜 ;

侯元德 ;

谢铭峰 ;

刘如淦 ;

鲁立忠 .

中国专利 :CN102456550A ,2012-05-16

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