半导体湿法清洗设备中水回收装置

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201720287062.4
申请日
2017-03-23
公开(公告)号
CN206635054U
公开(公告)日
2017-11-14
发明(设计)人
陈建标 蒋亚东 李天鹏 王光伟 董振雷 顾中平
申请人
申请人地址
214434 江苏省无锡市江阴市滨江开发区澄江东路
IPC主分类号
C02F100
IPC分类号
代理机构
江阴市扬子专利代理事务所(普通合伙) 32309
代理人
周彩钧
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种半导体湿法清洗设备 [P]. 
赵春生 .
中国专利 :CN218282846U ,2023-01-13
[2]
半导体湿法清洗设备及其自清洗方法 [P]. 
王泽 ;
王岩 ;
章志兴 .
中国专利 :CN119905420B ,2025-12-12
[3]
半导体湿法清洗设备及其自清洗方法 [P]. 
王泽 ;
王岩 ;
章志兴 .
中国专利 :CN119905420A ,2025-04-29
[4]
半导体清洗设备 [P]. 
王宝生 ;
唐斌 .
中国专利 :CN217289621U ,2022-08-26
[5]
半导体清洗设备中的抽风装置 [P]. 
卡尔·罗伯特·休斯特 .
中国专利 :CN202638839U ,2013-01-02
[6]
用于半导体湿法工艺中的悬挂装置及半导体生产设备 [P]. 
程登 ;
牛李宁 ;
赵强强 ;
徐勇 ;
吴良虎 .
中国专利 :CN222801760U ,2025-04-25
[7]
一种用于半导体湿法清洗的装置 [P]. 
万林林 ;
雷述宇 .
中国专利 :CN203932013U ,2014-11-05
[8]
一种半导体制造用湿法清洗设备 [P]. 
张乔栋 ;
陈业 ;
刘少丽 ;
杨雅婷 ;
王倩 .
中国专利 :CN207338325U ,2018-05-08
[9]
一种半导体晶片湿法清洗设备 [P]. 
赵厚莹 .
中国专利 :CN107546148A ,2018-01-05
[10]
一种半导体晶片湿法清洗设备 [P]. 
赵厚莹 .
中国专利 :CN108022855A ,2018-05-11