高功率激光系统中反射光学元件的制备及其测温方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911012197.X

申请日：

2019-10-23

公开(公告)号：

CN110736561B

公开(公告)日：

2020-01-31

发明(设计)人：

晋云霞徐姣邵建达张益彬王勇禄曹红超孔钒宇陈俊明

申请人：

申请人地址：

201800 上海市嘉定区清河路390号

IPC主分类号：

G01K1118

IPC分类号：

G02B508 G02F101

代理机构：

上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317

代理人：

张宁展

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-02-25	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G01K 11/18 申请日:20191023
2021-05-04	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):G01K 11/18 登记生效日:20210421 变更事项:专利权人变更前权利人:中国科学院上海光学精密机械研究所变更后权利人:杭州光学精密机械研究所变更事项:地址变更前权利人:201800 上海市嘉定区清河路390号变更后权利人:311400 浙江省杭州市富阳区春江街道大桥南路328号
2020-01-31	公开	公开
2020-09-15	授权	授权

共 50 条

[1]

反射单元及高功率激光系统 [P].

周伟 ;

苏海业 ;

单天祥 ;

许凯迪 .

中国专利 :CN216850730U ,2022-06-28

[2]

处理反射光学元件的方法、反射光学元件和光学装置 [P].

O·莫格尔-库恩 ;

T·格拉伯 ;

S·瓦格斯鲁伊斯 ;

M·维瑟 ;

S·维斯纳 ;

F·朗格 ;

A·希多伦科 ;

F·沙佩尔 .

德国专利 :CN121175596A ,2025-12-19

[3]

反射光学元件及其制造方法 [P].

吉塞拉·冯布兰肯哈根 .

中国专利 :CN102159997A ,2011-08-17

[4]

反射光学元件及其制造方法 [P].

蒂姆·特萨法蒂 ;

欧文·佐索特 ;

埃里克·路易斯 ;

弗雷德里克·比杰柯克 .

中国专利 :CN102089683B ,2011-06-08

[5]

防反射光学元件和防反射光学元件的制造方法 [P].

宫原正明 ;

国定照房 ;

涩谷穰 .

中国专利 :CN102681044A ,2012-09-19

[6]

高功率激光系统中的级联自准直装置 [P].

彭纯 ;

梁晓燕 ;

李文启 ;

李儒新 .

中国专利 :CN112415763A ,2021-02-26

[7]

具有高刚度基材的反射光学元件 [P].

J·S·萨瑟兰 ;

L·G·万博尔特 ;

K·S·伍达得 .

中国专利 :CN108780161A ,2018-11-09

[8]

一种高功率激光系统中光学晶体损伤防护方法 [P].

王玉奉 ;

王威 ;

肖春雷 ;

戴东旭 ;

杨学明 .

中国专利 :CN111244744B ,2020-06-05

[9]

高功率激光系统的色散测量方法 [P].

姜有恩 ;

傅敏 ;

潘雪 ;

杨庆伟 ;

周丽 ;

肖奇 ;

李学春 ;

朱健强 .

中国专利 :CN115127779B ,2025-04-15

[10]

高功率激光系统的色散测量方法 [P].

姜有恩 ;

傅敏 ;

潘雪 ;

杨庆伟 ;

周丽 ;

肖奇 ;

李学春 ;

朱健强 .

中国专利 :CN115127779A ,2022-09-30

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