一种高折射率光学镀膜材料及制备方法、光学增透膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811431803.7

申请日：

2018-11-27

公开(公告)号：

CN109503149A

公开(公告)日：

2019-03-22

发明(设计)人：

秦海波

申请人：

申请人地址：

102629 北京市大兴区黄村镇天河北路14号

IPC主分类号：

C04B3546

IPC分类号：

代理机构：

北京市商泰律师事务所 11255

代理人：

黄晓军

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-04-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C04B 35/46 申请日:20181127
2022-12-09	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C 14/08 申请公布日:20190322
2019-03-22	公开	公开

共 50 条

[1]

一种光学镀膜材料及制备方法、光学增透膜 [P].

秦海波 .

中国专利 :CN109507764A ,2019-03-22

[2]

一种低折射率光学镀膜材料 [P].

秦海波 .

中国专利 :CN106019417A ,2016-10-12

[3]

一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽及其制备方法 [P].

张健 .

中国专利 :CN103046134A ,2013-04-17

[4]

低折射率光学镀膜材料及其应用 [P].

秦海波 .

中国专利 :CN110456427A ,2019-11-15

[5]

一种低折射率光学镀膜材料 [P].

秦海波 .

中国专利 :CN106019428A ,2016-10-12

[6]

一种低折射率红外光学镀膜材料及制备方法 [P].

秦海波 .

中国专利 :CN107881467A ,2018-04-06

[7]

一种预熔化的高折射率光学镀膜材料及其制备方法和应用 [P].

张碧田 ;

石志霞 ;

彭程 ;

孙静 ;

段华英 ;

张恒 ;

王星明 .

中国专利 :CN113200566B ,2021-08-03

[8]

一种成膜均匀的低折射率光学镀膜材料及制备方法 [P].

秦海波 .

中国专利 :CN107219567A ,2017-09-29

[9]

一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置 [P].

蔡轩臣 .

中国专利 :CN111330694A ,2020-06-26

[10]

一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置 [P].

卢鹏荐 ;

张威 .

中国专利 :CN215655405U ,2022-01-28

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