一种预熔化的高折射率光学镀膜材料及其制备方法和应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110407120.3

申请日：

2021-04-15

公开(公告)号：

CN113200566B

公开(公告)日：

2021-08-03

发明(设计)人：

张碧田石志霞彭程孙静段华英张恒王星明

申请人：

申请人地址：

101407 北京市怀柔区雁栖经济开发区兴科东大街11号

IPC主分类号：

C01G2300

IPC分类号：

C23C1408 C23C1430

代理机构：

北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319

代理人：

苟冬梅

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-03	公开	公开
2021-08-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C01G 23/00 申请日:20210415
2022-06-17	授权	授权

共 50 条

[1]

一种高折射率光学镀膜材料及制备方法、光学增透膜 [P].

秦海波 .

中国专利 :CN109503149A ,2019-03-22

[2]

低折射率光学镀膜材料及其应用 [P].

秦海波 .

中国专利 :CN110456427A ,2019-11-15

[3]

一种低折射率镀膜材料及其制备方法 [P].

梁小生 ;

万一兵 ;

梁楚军 ;

黄洪浜 .

中国专利 :CN116676561B ,2025-12-05

[4]

一种低折射率红外光学镀膜材料及制备方法 [P].

秦海波 .

中国专利 :CN107881467A ,2018-04-06

[5]

一种高折射率的镀膜材料及其制备方法 [P].

李龙 ;

吴海平 ;

徐宇晴 .

中国专利 :CN120590150A ,2025-09-05

[6]

一种高折射率的镀膜材料、制备方法及其应用 [P].

杨磊 ;

彭程 ;

王星奇 ;

孙静 ;

石志霞 ;

张碧田 ;

段华英 ;

刘宇阳 ;

王星明 .

中国专利 :CN118497674B ,2024-11-05

[7]

一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽及其制备方法 [P].

张健 .

中国专利 :CN103046134A ,2013-04-17

[8]

一种新型高折射率的镀膜材料、制备方法及其应用 [P].

杨磊 ;

彭程 ;

王星奇 ;

孙静 ;

石志霞 ;

张碧田 ;

段华英 ;

刘宇阳 ;

王星明 .

中国专利 :CN118497674A ,2024-08-16

[9]

一种低折射率光学镀膜材料 [P].

秦海波 .

中国专利 :CN106019417A ,2016-10-12

[10]

一种低折射率光学镀膜材料 [P].

秦海波 .

中国专利 :CN106019428A ,2016-10-12

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