一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210562240.1

申请日：

2012-12-20

公开(公告)号：

CN103046134A

公开(公告)日：

2013-04-17

发明(设计)人：

张健

申请人：

申请人地址：

202163 上海市崇明县兴工路18号2号楼356室(上海广福经济小区)

IPC主分类号：

C30B2916

IPC分类号：

C30B1100 C30B2806

代理机构：

代理人：

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-09-07	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101738528465 IPC(主分类):C30B 29/16 专利申请号:2012105622401 申请公布日:20130417
2013-04-17	公开	公开
2013-05-15	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101457135055 IPC(主分类):C30B 29/16 专利申请号:2012105622401 申请日:20121220

共 50 条

[1]

一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置 [P].

蔡轩臣 .

中国专利 :CN111330694A ,2020-06-26

[2]

一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置 [P].

卢鹏荐 ;

张威 .

中国专利 :CN215655405U ,2022-01-28

[3]

一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置 [P].

卢鹏荐 ;

张威 .

中国专利 :CN216879540U ,2022-07-05

[4]

一种高折射率光学镀膜材料及制备方法、光学增透膜 [P].

秦海波 .

中国专利 :CN109503149A ,2019-03-22

[5]

一种低折射率光学镀膜材料 [P].

秦海波 .

中国专利 :CN106019417A ,2016-10-12

[6]

一种低折射率光学镀膜材料 [P].

秦海波 .

中国专利 :CN106019428A ,2016-10-12

[7]

一种预熔化的高折射率光学镀膜材料及其制备方法和应用 [P].

张碧田 ;

石志霞 ;

彭程 ;

孙静 ;

段华英 ;

张恒 ;

王星明 .

中国专利 :CN113200566B ,2021-08-03

[8]

低折射率光学镀膜材料及其应用 [P].

秦海波 .

中国专利 :CN110456427A ,2019-11-15

[9]

氧化钽光学镀膜材料及其制备方法 [P].

卿小斐 ;

王呈 ;

何小山 ;

谢佳琦 ;

蔡新志 ;

余芳 ;

李帅 .

中国专利 :CN120117897A ,2025-06-10

[10]

一种低折射率镀膜材料及其制备方法 [P].

梁小生 ;

万一兵 ;

梁楚军 ;

黄洪浜 .

中国专利 :CN116676561B ,2025-12-05

← 1 2 3 4 5 →