半导体器件及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200410006096.9
申请日
2004-02-27
公开(公告)号
CN1525562A
公开(公告)日
2004-09-01
发明(设计)人
清利正弘
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L2701
IPC分类号
H01L2100
代理机构
北京市中咨律师事务所
代理人
段承恩;陈海红
法律状态
授权
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
清利正弘 .
中国专利 :CN100379000C ,2004-09-01
[2]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
中村亘 .
中国专利 :CN101253621A ,2008-08-27
[3]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
王文生 .
中国专利 :CN101253620B ,2008-08-27
[4]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
稗田克彦 .
中国专利 :CN100420023C ,2004-05-26
[5]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
置田阳一 ;
小室玄一 .
中国专利 :CN101238573A ,2008-08-06
[6]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
王文生 .
中国专利 :CN101627470A ,2010-01-13
[7]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
姜泰旭 .
中国专利 :CN101982884A ,2011-03-02
[8]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
张朝钦 ;
吴正一 ;
蔡建欣 ;
林明辉 ;
林艺民 ;
李锦思 ;
张文山 ;
陈宜辉 .
中国专利 :CN106981474A ,2017-07-25
[9]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
姜泰旭 .
中国专利 :CN1794452B ,2006-06-28
[10]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
望月博 ;
奥和田久美 ;
金谷宏行 ;
日高修 .
中国专利 :CN100367407C ,1998-08-12