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光学临近效应修正方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200810204777.4
申请日
:
2008-12-17
公开(公告)号
:
CN101750876B
公开(公告)日
:
2010-06-23
发明(设计)人
:
王伟斌
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市张江路18号
IPC主分类号
:
G03F136
IPC分类号
:
代理机构
:
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人
:
屈蘅;李时云
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2010-08-18
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101004902809 IPC(主分类):G03F 1/14 专利申请号:2008102047774 申请日:20081217
2010-06-23
公开
公开
2012-07-04
授权
授权
共 50 条
[1]
光学临近效应修正方法
[P].
翟翠红
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0
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翟翠红
;
张逸中
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张逸中
;
于世瑞
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于世瑞
.
中国专利
:CN109507847B
,2019-03-22
[2]
光学临近效应修正方法
[P].
王谨恒
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王谨恒
;
黄旭鑫
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黄旭鑫
;
张雷
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张雷
.
中国专利
:CN102063010A
,2011-05-18
[3]
光学临近效应修正方法
[P].
陈翰
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陈翰
;
魏芳
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魏芳
;
张旭升
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张旭升
;
储志浩
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储志浩
.
中国专利
:CN103309149A
,2013-09-18
[4]
光学临近效应修正方法
[P].
何大权
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何大权
;
魏芳
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魏芳
;
张旭升
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张旭升
.
中国专利
:CN103309148A
,2013-09-18
[5]
光学临近效应修正方法
[P].
陈福成
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陈福成
.
中国专利
:CN103513506A
,2014-01-15
[6]
光学临近效应的修正方法
[P].
王飞舟
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
王飞舟
;
张月雨
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
张月雨
;
汪悦
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
汪悦
.
中国专利
:CN114740688B
,2025-12-09
[7]
光学临近效应的修正方法
[P].
不公告发明人
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不公告发明人
.
中国专利
:CN112764307A
,2021-05-07
[8]
光学临近效应的修正方法
[P].
王飞舟
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王飞舟
;
张月雨
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张月雨
;
汪悦
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汪悦
.
中国专利
:CN114740688A
,2022-07-12
[9]
光学临近效应修正方法及其修正系统
[P].
李超宇
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李超宇
;
于世瑞
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于世瑞
.
中国专利
:CN110456615B
,2019-11-15
[10]
孔的光学临近效应修正方法
[P].
陈福成
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陈福成
;
袁春雨
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袁春雨
.
中国专利
:CN103048873A
,2013-04-17
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