一种抛光剂及其制备方法及除垢抛光方法

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专利类型
发明
申请号
CN201510976271.5
申请日
2015-12-23
公开(公告)号
CN106906475A
公开(公告)日
2017-06-30
发明(设计)人
连俊兰 陈帆 林宏业
申请人
申请人地址
518118 广东省深圳市坪山新区比亚迪路3009号
IPC主分类号
C23F303
IPC分类号
C09K1308
代理机构
代理人
法律状态
实质审查的生效
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共 50 条
[1]
抛光剂及基片的抛光方法 [P]. 
町井洋一 ;
小山直之 ;
西山雅也 ;
吉田诚人 .
中国专利 :CN1290162C ,2003-11-19
[2]
抛光剂及基片的抛光方法 [P]. 
町井洋一 ;
小山直之 ;
西山雅也 ;
吉田诚人 .
中国专利 :CN1746255B ,2006-03-15
[3]
一种抛光剂及抛光方法 [P]. 
韦家亮 .
中国专利 :CN119776837A ,2025-04-08
[4]
抛光剂及其制备方法 [P]. 
丁杰 ;
薛钦 ;
钱宜刚 ;
汤明明 ;
陈峰 ;
顾登峰 ;
马俊逸 .
中国专利 :CN114213977A ,2022-03-22
[5]
抛光剂及其制造方法以及抛光方法 [P]. 
谷泰弘 ;
卢毅申 .
中国专利 :CN1366549A ,2002-08-28
[6]
一种抛光剂及其制备方法 [P]. 
李月巧 .
中国专利 :CN106637218A ,2017-05-10
[7]
一种抛光剂及其制备方法 [P]. 
廖锡林 .
中国专利 :CN107699141A ,2018-02-16
[8]
白米抛光剂及其制备方法 [P]. 
李庆龙 ;
柯惠玲 .
中国专利 :CN1234986A ,1999-11-17
[9]
一种抛光剂及其制备方法 [P]. 
黄显士 .
中国专利 :CN107365997A ,2017-11-21
[10]
金属抛光剂及其制备方法 [P]. 
杨开林 .
中国专利 :CN101177591B ,2008-05-14