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一种抛光剂及抛光方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411081609.6
申请日：
2024-08-06
公开(公告)号：
CN119776837A
公开(公告)日：
2025-04-08
发明(设计)人：
韦家亮
申请人：
比亚迪股份有限公司
申请人地址：
518118 广东省深圳市坪山区比亚迪路3009号
IPC主分类号：
C23F3/03
IPC分类号：
代理机构：
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人：
郭树青;臧建明
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
广东省 深圳市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-04-29 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):C23F 3/03申请日:20240806
2025-04-08 公开 公开
共 50 条
[1]
抛光剂及基片的抛光方法 [P]. 
町井洋一 ;
小山直之 ;
西山雅也 ;
吉田诚人 .
中国专利 :CN1290162C ,2003-11-19
[2]
抛光剂及基片的抛光方法 [P]. 
町井洋一 ;
小山直之 ;
西山雅也 ;
吉田诚人 .
中国专利 :CN1746255B ,2006-03-15
[3]
一种等离子抛光剂及抛光方法 [P]. 
谈真高 .
中国专利 :CN110885638A ,2020-03-17
[4]
抛光剂 [P]. 
G·海伊 ;
A·阿格希纳 .
中国专利 :CN101029208A ,2007-09-05
[5]
一种抛光剂及其制备方法及除垢抛光方法 [P]. 
连俊兰 ;
陈帆 ;
林宏业 .
中国专利 :CN106906475A ,2017-06-30
[6]
抛光剂 [P]. 
宫下直人 ;
安部正泰 ;
下村玛丽子 .
中国专利 :CN1072699C ,1997-10-15
[7]
抛光剂及其制造方法以及抛光方法 [P]. 
谷泰弘 ;
卢毅申 .
中国专利 :CN1366549A ,2002-08-28
[8]
一种抛光剂 [P]. 
张景松 ;
梁培栋 .
中国专利 :CN108340284A ,2018-07-31
[9]
一种抛光剂 [P]. 
袁健 .
中国专利 :CN100389228C ,2006-11-29
[10]
一种抛光剂 [P]. 
苏建丽 .
中国专利 :CN102977790B ,2013-03-20
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